Semiconductor Page Heading

终点监控

HORIBA在分析仪器领域的专业知识,是其为半导体、制药和化工行业提供一系列有效的工业监控工具的基础。

凭借紧凑设计和增强的图像质量,使用直接俯视晶圆的方法,LEM激光干涉仪可以在各种腔室上安装,用于定点蚀刻速率监测和终点检测。LEM提供样品表面的实时数字CCD图像,30m 激光束定位简单又准确。LEM 以干涉测量技术为基础,为各种干法刻蚀应用的终点检测提供定点刻蚀/生长速率监控。

相关产品

EV 2.0 系列
详情 EV 2.0 系列

基于光发射光谱和 MWL 干涉测量法的工艺终点/反应腔健康监测

EV-140C
详情 EV-140C

光发射光谱蚀刻终点监测仪

IR-300
详情 IR-300

蒸汽浓度监测仪

IR-400
详情 IR-400

用于腔室清洗终点监测的高级气体监测仪

LEM Series
详情 LEM Series

基于实时激光干涉测量的摄像头终点监测

MICROPOLE 系统
详情 MICROPOLE 系统

紧凑型工艺气体监测仪

RU-1000
详情 RU-1000

等离子体发射控制器

VCC-100
详情 VCC-100

蒸汽浓度控制器

VG-200S
详情 VG-200S

Capacitance Manometer

留言咨询

如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。

Corporate