新闻
2019年2月27日 - 拓宽颗粒表征仪器技术 2019 年 1 月 24 日，堀场制作所（总部位于日本京都，以下简称“HORIBA”）宣布HII（HORIBA Instruments Incorporated，总部位于美国尔湾市，以下简称HII）已成功收购MANTA仪器公司（MANTA Instruments,...
2018年9月11日 - 8月21日，堀场制作所（总部：日本京都；下称“HORIBA”）宣布，公司将搬迁位于美国新泽西州的光学分析和测量设备开发和生产中心。新的光谱中心从Edison市迁到Piscataway市，占地面积扩大约1倍。8月30日上午11：00，新泽西光谱中心举行开业仪式并开始全面运营。开业仪式出席嘉宾大约为100人，包括主席兼集团CEO 堀场厚、总裁兼COO足立正之以及HORIBA仪器公司（美国）总裁兼COO 东野敏也等。新泽西州参议院Bob...
2018年1月 4日 - HORIBA集团提供一款光学式化学药液浓度计，可有效实现半导体或FPD中湿法工艺对混酸或单酸药液监测的需求。 自1995年起，HORIBA集团成功研发出一款多组分浓度监测的化学药液浓度计，其产品的推广帮助客户在湿法工艺中完成对化学药液浓度监测的需求。毫不夸张的说HORIBA集团的化学药液浓度计在半导体制程的前端工艺市场的占有率已达到领先水准。如今，随着半导体对工艺要求日渐精益求精，特别是对化学药液浓度的监控与日俱增，化学药液浓度计必然成为了不可或缺的必备...
2017年12月26日 - 随着太阳能电池生产技术的发展, 转换效率越来越高,各种新的工艺手段得到广泛的应用,其中背钝化技术因为其对转化效率的显著作用(提高0.5~1%),成为今年来技术改造的热点.。无论是管式或者板式背钝化设备,都需要在反应腔内导入气态TMA, 与氧气反应后生成钝化膜,所以TMA的稳定气化就成为工艺控制的重中之重。TMA要求的气化温度不高, 而且工艺参数中要求流量较小,一般介于0.5g~2g/min,...
2017年12月26日 - TMAH(羟化四甲铵)，一种在半导体制程光刻工艺时使用到的显影液主要成分。在湿法刻蚀工艺中，越来越多的半导体芯片厂或者面板厂逐步倾向于使用TMAH作为显影液的主要成分。而监测显影液中TMAH的浓度可帮助用户控制刻蚀效果，提高刻蚀效果的质量与效率。HORIBA集团生产的HE-960H-TM系列的浓度计，作为显影液的主要成分的监测仪器，