离子刻蚀

        离子刻蚀允许在全息母光栅上按要求“雕刻”凹槽形状。可以生产不同凹槽形状的闪耀全息光栅,包括三角形和层状。

        该技术采用离子刻蚀系统透过一个全息掩膜板磨损表面原子。全息掩膜板通过激光干涉照明光刻胶和后期化学处理制作。这种工艺适用于平面,球面和非球面基质。

初始伪正弦,全息记录的凹槽外形
全息记录后离子刻蚀形成的三角凹槽外形

        离子刻蚀“锯齿”外形能增强闪耀波长一阶和其它高阶衍射效率。层状外形能减小甚至消除不需要的二阶衍射效率。

        离子刻蚀光栅能复制量产,但通常直接用于母光栅。此时直接在毛坯上离子刻蚀获得光栅凹槽,光栅即使在最强的同步光源照射下也表现得非常稳固。

全息记录后离子刻蚀形成的层状凹槽外形