变刻槽深度(VGD)原刻光栅

变刻槽深度(VGD)原刻光栅

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一块变刻槽深度光栅可以替代几块常规光栅.

HORIBA Jobin Yvon的变刻槽深度(VGD)光栅的刻槽深度可以在光栅刻线的宽度方向上连续改变,可以通过横向移动光栅来连续改变光栅的闪耀波长。当横向移动和光栅波长扫描机构联动时,在窄光束情况下,一块变刻槽深度光栅可以在很宽的波长范围内呈现高的衍射效率(on-blaze)、有效抑制高次谐波.

变刻槽深度(VGD)光栅的技术参数

  • 材料:非定向的硅晶体
  • 表面粗糙度:小于0.5nmRMS
  • 面型误差:0.7 μrad RMS
  • 占空比:0.55误差小于 ±15%
  • 镀膜材料:Au, Pt 或 Ni

HORIBA Jobin Yvon变刻槽深度(VGD)光栅兼容于:

  • 单晶硅和熔融石英光栅基底
  • 全息记录工艺
  • 等栅距、变栅距、消像差光栅
  • 离子束刻蚀工艺
  • 极紫外反射膜
VGD Principle

光束线系统,由于光斑在光栅上的光斑尺度为mm量级,满足窄光束的条件,只要更换原来的光栅为变刻槽深度光栅,将在整个光束线覆盖的波长范围内得到最高的通量.

变刻槽深度光栅的性能举例

VGD Grating Efficiency Curve