FPD工艺
HORIBA拥有多种分析、控制、评估技术以应对半导体制造业对工艺规格的严格要求。
HORIBA充分利用自身在FPD领域的科技。这些科技提供给不同工艺制造过程中的技术支持，包括气体和液体药物成分，光掩模上颗粒物监测，薄膜监测。这些技术同样可以应用于高性能分析及控制设备以支持PDPs的研发，有机EL，FEDs以及FPD领域的多样化的发展。
相关产品
如下展示了不同阶段的FPD制造工艺过程。请点击各个阶段的链接以了解我们产品。
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In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.
这是一套分析放射性发光的终点监测设备，专为以等离子技术为基础的半导体薄膜制程进行终点检定或等离子条件的监控而研制。新型的数学模型技术赋予它通过捕获微弱信号的变化进行终点检定的能力。在放射性发光中捕获微弱变化的能力显著地提高了灵敏度。对于抗干扰性的改善确保了本设备在复杂环境下持续不停的生产线上获得高稳定的运行。
HORIBA科学仪器事业部推出了新一代研究级光谱型椭圆偏振光谱仪，它具有最高的精确度、重复性、灵敏度，且具备独一无二的功能特性，是用于表征纳米和微米膜层的有力工具。UVISEL 2具有完备的全自动特性，操作简单、快速，可广泛应用于各类现有及新兴领域。
