
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2HR
概要
高速高效实现颗粒物检测
半导体工厂对高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及长期的稳定性享有盛誉。PR-PD2HR的传输系统在长时间的操作中可以保持传输稳定,性能优异,输出良好的特点,而现在PR-PD2HR又可实现低至0.35µm的信号检测。
可适配任意一种Stepper盒的PR-PD2HR可处理多至10个卡夹,也支持多种通讯协议。作为PD系列的一员,本设备提供高功能性对应多种Reticle和掩模版颗粒物监测任务,同时也可在高速输出的条件下进行Glass面及Pellicle面的监测。PR-PD2HR可对半导体工厂的产量提高作出贡献。
可检测的Pattern上的超微颗粒的尺寸可小至0.35µm 。Reticle直径1.0µm、线宽小至1.0µm的情况下,确保减少监测错误。
简单操作
预估步骤非常简单,因为用户可以定义包括Reticle尺寸、检测条件,表面监测区域,Partile级别及其他参数在内的检测条件。结果实时显示在显示方框内,标有颗粒物在基板上的位置以及它的大小尺寸。检测结果储存在数据库服务器中,其数据管理软件可以根据用户需要做结果的处理及报告的输出。通过局域网连接的双向通讯也是可行的。
提供上下两个表面的颗粒物观测图像
检测图像可在位于Reticle/Mask上方及下方的四个中任意一个的光学镜头间进行切换。上方的镜头为x440,而下方的四个镜头则分别为x220,x440,x880和x2200。这些镜头可提供上表面和下表面上颗粒物的直接图像。
通过独特的光学处理方式减少检测错误Horiba独有的信号处理可有效抑制低至1.0µm/1.0µmL&S级别的误检。通过可以有效鉴别Pattern的低通过滤器进一步将错检降低。而这在高密度Pattern中降低误检率是非常有效的。
应用Reticle/Mask制造制程
- 测量Mask与Reticle空白处的颗粒物
- EB光刻及清洗制程之后的Pattern与Glass表面的颗粒物测量
- Pellicle封装之后的Pattern,Glass和Pellicle表面的颗粒物测量
- 封装之前的Pellicle表面的颗粒物测量(可选功能)
曝光制程
- Reticle/Mask接收的QA检测
- 曝光前Reticle/Mask的常规检测
- Reticle/Mask的定期颗粒物检测
特征
- 可检到小至0.35µm的颗粒物
- 对散射光的附加信号处理可有效检测小至0.35µm的污染颗粒物
- 降低误检率
- 多级进给系统可处理任意类型的Stepper盒
- 可处理SMIF pod
- 不同尺寸,不同类型的Stepper盒可混合装载
制造: HORIBA
規格
原理 | 极化激光散射方式 |
检测目的 | 已封装或未封装Pellicle的Reticle/Mask |
探测器 | 多光学镜头 |
光源 | 氩气激光 488 nm, 10 mW |
Reticle/Mask 尺寸 | 5" x 5", 6" x 6", 2.3 to 6.3 mm thickness (maximum 1/4") |
Pellicle | 厚度: 0.865 to 2.85 µm (±0.2 µm) Frame height: |
可检测的颗粒物尺寸 | Pattern surface: 0.35 µm or larger |
检测性能 | 标准模式: 90%以上的0.35 µm的颗粒物 |
颗粒物级别设定 | Pattern 面: 0.25 to 10 (3 steps) |
检测区域 | 形状: 正方形, 矩形, 圆形
区域: |
检测结果 | LCD 显示: |
颗粒物观测 | LCD screen observed from top and bottom side.上下面的LCD屏幕观测 |
标准功能 | 自动回看功能,协同原点设定/旋转补偿功能, 观测中心功能,位置图显示插入/删除功能, 条形码预备(硬件选项) |
可选功能 | 仅对Pellicle面的检测, Mask Blank的检测,额外尺寸基板面的检测, 双向数据通讯(GEM 或 SECS2) |
尺寸 | 1710 (W) x 1540 (H) x 1400* (D) mm |
重量 | Approx. 1000kg/2222 lbs |
附件 | |
安装 | 洁净等级: Class 10 或以上 |
电源 | 200/210/220/240 V AC ±10 V (用户自定), 单相 4k VA, 50/60 Hz |
真空源 | 压差: 8.0 x 104 Pa或更高, 50 L/min |