光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2HR

PR-PD2HR Particle detection system

概要

高速高效实现颗粒物检测

半导体工厂对高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及长期的稳定性享有盛誉。PR-PD2HR的传输系统在长时间的操作中可以保持传输稳定，性能优异，输出良好的特点，而现在PR-PD2HR又可实现低至0.35µm的信号检测。

可适配任意一种Stepper盒的PR-PD2HR可处理多至10个卡夹，也支持多种通讯协议。作为PD系列的一员，本设备提供高功能性对应多种Reticle和掩模版颗粒物监测任务，同时也可在高速输出的条件下进行Glass面及Pellicle面的监测。PR-PD2HR可对半导体工厂的产量提高作出贡献。

可检测的Pattern上的超微颗粒的尺寸可小至0.35µm 。Reticle直径1.0µm、线宽小至1.0µm的情况下，确保减少监测错误。

简单操作

预估步骤非常简单，因为用户可以定义包括Reticle尺寸、检测条件，表面监测区域，Partile级别及其他参数在内的检测条件。结果实时显示在显示方框内，标有颗粒物在基板上的位置以及它的大小尺寸。检测结果储存在数据库服务器中，其数据管理软件可以根据用户需要做结果的处理及报告的输出。通过局域网连接的双向通讯也是可行的。

提供上下两个表面的颗粒物观测图像

检测图像可在位于Reticle/Mask上方及下方的四个中任意一个的光学镜头间进行切换。上方的镜头为x440，而下方的四个镜头则分别为x220，x440，x880和x2200。这些镜头可提供上表面和下表面上颗粒物的直接图像。

通过独特的光学处理方式减少检测错误Horiba独有的信号处理可有效抑制低至1.0µm/1.0µmL&S级别的误检。通过可以有效鉴别Pattern的低通过滤器进一步将错检降低。而这在高密度Pattern中降低误检率是非常有效的。

应用Reticle/Mask制造制程

  • 测量Mask与Reticle空白处的颗粒物

     

  • EB光刻及清洗制程之后的Pattern与Glass表面的颗粒物测量

     

  • Pellicle封装之后的Pattern，Glass和Pellicle表面的颗粒物测量

     

  • 封装之前的Pellicle表面的颗粒物测量（可选功能）

     

曝光制程

  • Reticle/Mask接收的QA检测

     

  • 曝光前Reticle/Mask的常规检测

     

  • Reticle/Mask的定期颗粒物检测

特征

  • 可检到小至0.35µm的颗粒物

     

  • 对散射光的附加信号处理可有效检测小至0.35µm的污染颗粒物

     

  • 降低误检率

     

  • 多级进给系统可处理任意类型的Stepper盒

     

  • 可处理SMIF pod

     

  • 不同尺寸，不同类型的Stepper盒可混合装载

制造: HORIBA

規格

原理

极化激光散射方式

检测目的

已封装或未封装Pellicle的Reticle/Mask

探测器

多光学镜头

光源

氩气激光 488 nm, 10 mW

Reticle/Mask 尺寸

5" x 5", 6" x 6", 2.3 to 6.3 mm thickness (maximum 1/4")
可选项: 3" x 5", 7" x 7", Ø7-1/4 with holder, 230 mm

Pellicle

厚度: 0.865 to 2.85 µm (±0.2 µm)

Frame height:  
Glass surface (upper): 2.5 to 4.0 mm
Pattern surface (lower): 2.5 to 6.3 mm
Frame size: Differs depend on reticle case.

可检测的颗粒物尺寸

Pattern surface: 0.35 µm or larger
Glass surface: 5 µm or larger
Pellicle surface: 10 µm or larger
(PSL equivalent diameter)

检测性能

标准模式: 90%以上的0.35 µm的颗粒物
5种检测集成模式: 93%以上的 0.35 µm的颗粒物

颗粒物级别设定

Pattern 面: 0.25 to 10 (3 steps)
Glass 面: 1.5 to 30.0 (3 steps)
Pellicle 面: 4 to 99 (3 steps)

检测区域

形状: 正方形, 矩形, 圆形

 

区域:
  5" x 5": 10 x 10 to 105 x 110 mm or  Ø10 to Ø105 mm
  6" x 6": 10 x 10 to 127 x 139 mm or  Ø10 to Ø127 mm
  7" x 7": 10 x 10 to 160 x 160 mm or  Ø10 to Ø160 mm
(Option)实际检测区域根据Reticle和Pellicle尺寸不同而有差异(7", 230 mm为可选项)

检测结果

LCD 显示:
位置图:整体检测区域的结果，以及Particle位置上由X-Y设定的位置图放大后区域的结果

颗粒物观测

LCD screen observed from top and bottom side.上下面的LCD屏幕观测
放大倍率: 220 x, 440 x, 1100 x (bottom side) 440 x fixed (top side)
照明: 亮/暗区域 照明, 配合顶灯.

标准功能

自动回看功能,协同原点设定/旋转补偿功能, 观测中心功能,位置图显示插入/删除功能, 条形码预备(硬件选项)

可选功能

仅对Pellicle面的检测, Mask Blank的检测,额外尺寸基板面的检测, 双向数据通讯(GEM 或 SECS2)

尺寸

1710 (W) x 1540 (H) x 1400* (D) mm
67.3 (W) x 60.6 (H) x 55.1* (D) in.
*Maximum width including a status lamp and a duct.

重量

Approx. 1000kg/2222 lbs

附件

安装

洁净等级: Class 10 或以上
温度: 231°C

电源

200/210/220/240 V AC ±10 V (用户自定), 单相 4k VA, 50/60 Hz

真空源

压差: 8.0 x 104 Pa或更高， 50 L/min