Halbleiter-Herstellungsprozess
Halbleiter sind heute die wichtigsten Komponenten in der Industrie und entwickeln sich stetig weiter. HORIBA hat diese Mikrowelt genau im Blick. Als Spezialist in jedem Feld arbeitet HORIBA in einer Vielzahl von Bereichen an proprietären Engineering-Projekten wie Auswertung und Analyse, Reinheit von ultrareinem Wasser, Zusammensetzung von Flüssigkeiten und Gasen und im weiteren Sinne Umwelt und Sicherheit. Für uns ist der Gesamtprozess das Wesentliche. Deshalb haben wir als Antwort auf strenge Anforderungen in der Qualitätskontrolle eine Reihe von Analysegeräten, Fluidsteuerungs- und Messsystemen entwickelt, die für jede Phase des Halbleiter-Herstellungsprozesses maßgeschneidert sind. In jedem Stadium – von der Materialbewertung bis hin zur Endkontrolle – tragen Produkte von HORIBA dazu bei, bei der Herstellung modernster elektronischer Geräte höchste Effizienz zu erzielen.
Berührungslose Temperaturmessung für:
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Verwandte Produkte
Unten sehen Sie die verschiedenen Phasen des Halbleiter-Herstellungsprozesses. Bitte klicken Sie auf die einzelnen Phasen, um die Produkte zu sehen, die dafür jeweils erhältlich sind.
High speed and high accuracy inspection for blanks mask
Achieves dramatic cost reductions in advanced mask inspections
Low running costs thanks to a compact design, plus remarkable versatility
For use in combination with Manufacturing Devices. Low-cost reticle/mask particle inspection with enhanced versatility and compactness.
Resistivity meter having the 2-channel carbon sensor. Measurement range: 0 - 100.0 MΩ・cm
Measure the ultra-low density of silica at the finest sensitivity of 0.01 µg/L (0.01 ppb).
Der GD-PROFILER 2 ist ein simultan messendes Glimmentladungsspektrometer mit einem 0,5 m Polychromator, der mit bis zu 47 Kanälen ausgerüstet werden kann. Er kann optional mit einem leistungsstarken 0,64 Meter Monochromator, der die Auswahl beliebiger weiterer Analysenlinien bietet, zur sequenziell-simultan arbeitenden Kombination (SEQ-SIM) ausgebaut werden.
Analytisches Raman Mikroskop mit hoher spektraler Auflösung für herausragende Ergebnisse und einzigartige Flexibilität; vollständig automatisiertes System mit vielfältigem Zubehör für unterschiedliche Applikationen
Einzelpunktanalyse und automatisiertes hyperspektrales Imaging
zwei verschiedene Vakuum-Optionen
Analysenspot-Durchmesser von 1,2mm bis zu einmaligen 10µm
Weiterleitung zu den Konzentrationsmonitoren für Chemikalien
In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.
Compact process gas monitor using quadrupole mass spectrometer. Monitors trace gases, responds quickly to process shift . Easy to install and maintain.
Die ultimative Lösung für alle Herausforderungen der Dünnschichtmessung
The LA-960V2 uses Mie Scattering (laser diffraction) to measure particle size of suspensions or dry powders. The speed and ease-of-use of this technique makes it the popular choice for most applications.