Partikel Detektion System
HORIBA bietet die folgenden Particle Detection System zur Spitzenlithografieprozess in der Halbleiterfertigung Markt , und sie sind weit verbreitet. Diese Produkte erkennen Partikel auf Absehen / Maske mit hohen Betriebs bewertet und Langzeitstabilität . Sie misst Partikel auf jeder Glas / Fensterflächemit hohem Durchsatz , einen Beitrag Verbesserungen zu erhalten für jede Halbleiter-Fertigungslinie. Wir bieten auch einen Particle -Entferner , die Sie in Verbindung mit dem Particle Detection System verwenden können.
High speed and high accuracy inspection for blanks mask
Achieves dramatic cost reductions in advanced mask inspections
For use in combination with Manufacturing Devices. Low-cost reticle/mask particle inspection with enhanced versatility and compactness.
Low running costs thanks to a compact design, plus remarkable versatility
