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ドライプロセスのさらなる高精度化には、ガス流量・圧力・温度・プラズマ状態など多くのパラメータの最適化が重要です。
超薄型マスフローコントローラやチャンバへの供給ガスのフロースプリッタなどの新製品をはじめ、プラズマモニタや放射温度計など数々の制御・モニタリング機器を紹介します。

Application

アプリケーション

Dry Process

半導体製造プロセスチャンバにおける計測・制御技術

パネルデータ

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サーマル式マスフローモジュール
SEC-Z700S Series

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差圧式マスフローモジュール
D500 Series

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サーマル式マスフローコントローラ
SEC-Z500X Series

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ミックスドインジェクション
MV-2000 Series

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ウェハ裏面圧力制御システム
GR-300 Series

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ガスモニタ
IR-300 Series

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ガスモニタ
IR-400 Series

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コンパクトプロセスガスモニタ
MICROPOLE System

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キャパシタンスマノメータ
VG-200 Series

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非接触放射温度計
IT-470F-H

半導体デバイスの温度計測 / プラズマ状態の分析・プロセス管理

パネルデータ

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非接触放射温度計
IT-480 Series

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プラズマ発光モニタ
EV-140C Series

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