SEMICON Japan 2019

開催期間 2019年12月11日(水)〜2019年12月13日(金)

HORIBAブース No. : 7405 (南1ホール)

Next Stage with HORIBA
半導体の進化をはかる技術で超えていく

世の中を便利に、人々のくらしを豊かにするためにさまざまな製品やサービス、技術が生まれ、半導体産業の役割がますます重要となっています。HORIBAは半導体製造材料の研究開発から量産ラインにおけるプロセスコントロールまで、長年の経験を通じて培った独自の分析・計測・制御技術によるソリューションでお応えします。

HORIBAブースのご案内

HORIBA Applications

HORIBAのコア技術をベースに、半導体製造プロセスにおけるインゴットからウェハ評価まで幅広いアプリケーションを紹介します。

Research and Development

薄膜の膜質・膜厚の評価

半導体薄膜評価エリプソメータ UVISEL Plus 【NEW】

UVISEL Plus

Lithography

異物計測/除去

レティクル/マスク異物検査装置 PR-PD3EP 【NEW】

レティクル/マスク自動異物除去装置 RP-1

PR-PD3EP

Dry Process

流体計測制御

サーマル式マスフローモジュール SEC-Z700S Series

差圧式マスフローモジュール D500 Series

ミックスドインジェクション MV-2000 Series

真空計測

コンパクトプロセスガスモニタ MICROPOLE System

チャンバー計測

非接触放射温度計 IT-480 Series 【NEW】

ガスモニタ IR-300 Series

プラズマ発光モニタ EV-140C Series

SEC-Z700S Series
IT-480 Series

Wet Process

濃度分析

薬液濃度モニタ CS-700

微量サンプリングpHモニタ UP-100

単波長吸光度計 HA-960

低濃度HF中溶存酸素計 HD-960-L-M

フラットカーボン導電率計 HE-960LF 【NEW】

HE-960LF

Utility/Wastewater

排水分析

無補充型 pH電極 6155 Series

溶存酸素モニタ HD-960L

HD-960L

Quality Control

ウェハ上異物分析

微小部蛍光X線元素分析装置 XGT-9000 【NEW】

XGT-9000

新製品を含め多数の製品を実機で展示します。

HORIBA Core Technologies

HORIBAは流体計測制御、光計測、電気化学計測というコア技術をベースに、長年培ったノウハウや経験を活かし、多様なニーズにお応えします。ブースではその事例を紹介します。

流体計測制御 / 光計測 / 電気化学計測

For Future Factory, Energy and Life

半導体デバイスの性能向上や用途拡大によって、AIやIoT、データセンターといった技術も向上しました。一方で、持続可能な社会を考えるにあたり、エネルギーマネジメントは大きな課題となっています。ここでは、HORIBAが持つIoTやクラウド、エネルギーに関するサービスを紹介します。

Smart Mobility

HORIBAは自動運転や電気自動車、さらに水素社会への対応といったスマートモビリティの開発に欠かせないエンジニアリング技術をご提供します。

Smart Mobility

セミナーのご案内

日時 12月12日(木) 15:00〜15:50

レティクル/マスク異物検査装置の導入事例と、分光分析技術で支える半導体評価アプリケーションのご紹介
堀場製作所

多くの半導体製造現場で高く評価されている、異物検査装置PR-PD3に搭載した新機能を中心に紹介します。加えてHORIBAのラマン、エリプソメトリなどの分光分析技術による半導体材料の物性評価事例についても紹介します。

日時 12月12日(木) 11:20〜12:10

半導体製造プロセスにおけるHORIBAのプラズマ状態の分析・計測技術とアプリケーション例のご紹介
堀場エステック

プラズマのコンディション管理は、エッチング・CVDなどのプロセスの最適化、歩留り向上などに欠かせないファクターとなっています。プラズマ状態の分析・計測技術、エッチングエンドポイント検出などの、最新のアプリケーションを紹介します。

日時 12月13日(金) 13:40〜14:30

半導体製造プロセス(ウェットプロセス)におけるHORIBA計測技術のご提案と新製品のご紹介
堀場アドバンスドテクノ

半導体デバイス製造プロセス、特にウェットプロセスにおいて弊社が培ってきた経験、知識を生かした計測技術をご紹介します。また、先端ウェットプロセスにおけるコンタミ問題に対応可能な新コンセプト薬液濃度計や、高温薬液測定向けに新技術を採用した薬液濃度計を紹介します。

会場内案内図

会場アクセス

会場 : 東京ビッグサイト 南展示棟
住所 : 〒135-0063 東京都江東区有明3-11-1

● 会場へのアクセスは、展示会公式サイトをご参照ください。
● ご来場の際は、ご来場当日の来場受付が不要となる便利なWeb 事前入場登録をご利用ください。