薬液濃度モニタ <CS-100>シリーズ

概要

ウェットプロセスに用いる薬液濃度計測が必要な方へ

HNO3/HFモニタ
KOH/IPAモニタ
NaOH/IPAモニタ
HFモニタ

プロセス: テクスチャー構造形成のためのウェットエッチング工程

変換効率の向上とウェハの薄型化を両立させるキーテクノロジーであるテクスチャー構造形成の プロセスにおいて、薬液濃度を測定することによりプロセスの最適化に貢献します。

目的

  • 薬液の連続測定によるプロセスの最適化
  • 薬液の長寿命化による、使用量の削減
  • ロット不良を減少させ製品歩留まりの向上

特長

  • リアルタイムの濃度追従性
  • フルオートでの連続測定
  • 軽量コンパクト設計
  • 低温/高温薬液対応
  • 副生成物の影響を考慮

注記) その他の薬液/アプリケーションはお問い合わせください。


製造会社: HORIBA Advanced Techno

外形寸法図・他(単位:mm)

Stability

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