マスク生産プロセス
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リソグラフィープロセス
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半導体製造プロセスにおける異物検出
Application 1 : ブランクマスク検査
PR-PD3 BLI
高スループットで0.1 μmまでのブランクマスクの異物検出が可能です。多段ケースによる複数サンプルの連続測定も可能です。
特徴：
検出感度を設定することで、最適なスループットを実現できます。
Application 2 : パターン付レチクルの検査
PR-PD3 Pro
幅広い種類のマスクやレチクルの異物検査が可能です。簡単な操作と0.5 μm感度で高スループット測定を実現。複数倍率の顕微鏡を内蔵しているため測定後に異物の観察と画像データの保存も可能です。オプションとして、オートフォーカスやオートキャプチャー機能を備えており、データ管理機能も充実。コンパクトな装置設計で設置スペースの削減に貢献します。
特徴：
複数面検査
3面を約15分以内に検査*
パターン面 0.5 μm
ガラス面 5 μm
ペリクル面 5 または10 μm
* Load / Unload含む
サンプルケース対応
SMIFボックス
一般的なステッパーケース
Application 3 : ペリクル検査
PR-PD3EP
EUVペリクル膜に付着した異物を高スループットで検査することが可能です。
特徴：
自動異物画像取り込み機能
自動で検出した異物の画像を取り込み、ファイルに保存することが可能です。
自動異物サイジング機能
自動で取り込んだ画像をもとに、異物の大きさを自動で計算可能です。
レチクルのエッジハンドリング
SEMI規格に準拠したエッジハンドリングが可能です。
Application 4 : 異物除去
RP-1
ウエハ、レチクル、ペリクル表面に付着した異物をエア/N2ブローと真空吸引で自動的に除去が可能です。
また、除去したパーティクルの再付着を防ぎます。
ランニングコストの低減
日常的な異物除去作業により、ペリクルの交換サイクル、マスクの洗浄サイクルを伸ばし、ランニングコスト低減に貢献します。異物検査装置PDシリーズと合わせて使用することで、より効率的な管理が可能です。
ガラス表面の粒子を除去した場合
（PSL 5.0μm）
マスク洗浄
薬液濃度モニタ
高速応答でコンパクトな薬液濃度計。使いやすく高度な薬液濃度モニタにより、レチクル/マスク洗浄中のプロセスドリフトを回避します。
マスク洗浄工程での洗浄液濃度をリアルタイムで測定し、プロセスの最適条件を維持・監視することができます。
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薬液濃度モニタ
CS-100シリーズ
光ファイバ式
薬液濃度モニタ
CS-600F
非接触型
薬液濃度モニタ
CS-900
TMAH濃度モニタ
HE-960H-TM
低濃度HF/HCl/NH3
濃度モニタ
HF-960M
マスクエッチング
エンドポイント検出
独自のアルゴリズムを用いてプラズマ発光を解析し、マスクエッチング工程でのエッチングプロセスの終点を検出します。
- プラズマ発光分析
エンドポイントモニタ
EV-140C
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324 秒後の終点
Cr/ 石英インターフェイスに到達
- レーザー干渉計
LEM Camera
マスク表面からのレーザー反射光の干渉信号を検知することにより、マスクエッチング工程でのエッチング終点を検出します。
ガス流量管理
マスクエッチング工程でのプロセスガスを制御するために、接ガス部をオールメタル構造にしたマスフローコントローラ。腐食性ガスに対する高い耐久性とデジタル通信制御を実現します。
- デジタルマスフロー
コントローラ
SEC-Z500X
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マスクストッカー
ガス制御
マスクストッカーのパージラインでのガス制御に最適なマスフローコントローラ。コストパフォーマンスに優れ、デジタル通信制御が可能です。
- マスフロー
コントローラ
SEC-E500
- デジタルマスフロー
コントローラ
SEC-N100
材料分析
ペリクルの厚さ測定
次世代ペリクルの厚さ、均一性の評価に最適です。
- エリプソメータ
UVISEL Plus
異物同定
レチクル・ペリクル上の異物成分を分析。
AFM機能も搭載し、多彩な機能で異物分析をサポートします。
- ラマン顕微鏡
XploRA Nano
