グループ会社 (株)エステック、米国ベンチャー企業と提携

2003年4月22日


−本件は(株)エステックの発表によるもの−

株式会社エステック(社長:堀場 厚、本社:京都市南区上鳥羽鉾立町11-5)は、このほどフェラン サイエンティフィック社(FERRAN SCIENTIFIC INC.)の製品である真空分析機器を世界各地に独占販売できる契約を締結しました。これにより当社が世界市場で強みを持つ半導体の流体計測・制御に、真空制御技術のラインナップが加わり、流体解析のさらなるソリューションを顧客に提供できるようになります。当社の販売網と堀場製作所のグローバルネットワークを活用し、今後ますます拡大が期待される流体解析市場への展開をはかります。

当社は、真空分析機器で世界トップクラスの技術を有する米国の゛フェラン サイエンティフィック社”(以下、フェラン社)との間で、技術交流をはかり、将来的にはお互いの要素技術を融合した協同開発も含めた技術提携および同社製品の残留ガス分析計(以下、RGA)、キャパシタンス型真空計(以下、CDG)を当社が独占販売する契約に関して、このほど基本合意の調印を行いました。

今回のフェラン社との提携は、当社の流体計測・制御機器の品揃えの充実ならびに製造プロセスにおけるソリューションを提供するうえで有益です。半導体製造において、インラインでのプロセスガスモニターは、生産の歩留まり向上、定期メンテナンスの最適化を行なう為に必要な重要工程です。特に近年ウェハサイズの大口径化(200mmから300mmへの転換)、高密度・微細化、生産設備のコスト低減への動きから、流体計測・制御市場では成膜プロセスチャンバーの高精度な圧力制御、残留ガスの計測がますます必要とされ、成膜プロセスへのソリューションとして、大いに期待されています。

当社がこれから販売する真空分析機器、RGAは世界最小クラスの検出部(従来比10分の1)を持ち、さらにメンテナンスフリーを実現したモデルです。また、CDGは従来の2分の1のスペースで設置可能という優れた特徴を持っています。半導体・液晶製造設備において、当社はマスフローコントローラで、世界トップのシェアと確固たる地位を築いていますが、フェラン社が持つ高い技術と製品をラインナップに加え、当社のグローバルな販売網を活用し、この得意とする分野でさらなる市場拡大を狙って行く方針です。



参考資料


<ご参考>

  • FERRAN SCIENTIFIC INC.の概要
    米国 カリフォルニア州.に本社をおく、真空分析機器のベンチャー企業(1989年設立)。
    事業分野としては、真空工業分野向けに独自の技術を使用したRGA、CDG製品の開発に成功し、販売店を通じて米国を中心に世界へ販売している。
    社長:Robert J Ferran
    住所:11558 Sorrento Valley Road,San Diego 92121,California USA

  • RGA
    Residual Gas Analyzer(残留ガス分析計)
    四重極(Quadrupole)を用いる原理を利用した質量分析計であり、真空環境で存在するガス分子の特定と質量分析を行なう装置。
    半導体、液晶装置に配置されているチャンバー内のプロセスガス分析、残留ガス分析、リークモニターなどの用途をはじめ広い範囲での真空装置に利用されている。

  • CDG
    Capacitance Diaphragm Gauge(静電容量型ダイアフラム真空計)
    真空環境に接しているダイアフラムが変形することにより、ダイアフラムと電極測定板との間に発生する静電容量を測定し、真空圧力に変換する装置。
    半導体、液晶製造の成膜する為のプロセス圧力の計測・制御用をはじめあらゆる真空機器の環境圧力測定に利用されている。
    マスフローコントローラとの製品融合(流体解析への展開)
    当社の主力製品であり、トップシェアを築いているマスフローコントローラ(以下、MFC)は、その測定原理の多くが熱式の質量検出方式である。
    半導体・液晶分野で使用されるガスの種類はこの数年で大きく変化し、また、種類も増加している。この様なガスの多様化に伴って、マスフローコントローラの流量計測技術に圧力を用いた流量検出方式を現在検討しており、ダイアフラム真空計を組込んだマスフローコントローラも早い時期での製品化を計画している。

  • 成膜プロセスでのソリューション(流体計測・制御のプロセス)
    成膜プロセスに欠かすことのできないチャンバー周辺の機器をラインナップすることにより、成膜プロセスの高精度化、歩留まり向上などへのソリューションが拡がる。

    • マスフローコントローラで高精度にガス流量を制御しチャンバーへ供給する。
    • 液体材料は液体マスフローコントローラで流量制御したのち、インジェクションで気化させチャンバーへ供給する。
    • ダイアフラム真空計は、チャンバー圧力を正確に計測し、プロセスの圧力制御を向上させる。
    • 残留ガスモニターでチャンバー内の環境を分析し、スループットの向上と装置稼働率向上をはかる。