液体材料を希望どおりに気化するためには、その材料特性や気化条件により最適な気化システムが必要です。HORIBA STECは「バブリング方式」「ベーキング方式」「直接気化方式」という3種類の気化方式を採用し、目的に応じた総合的なシステムとしてご提案。お客様の多岐にわたるご要望に的確にお応えします。

 

気化条件

気化方式と液体材料の気化条件

主な液体材料

特殊な液体材料も正確に安定して気化でき、様々な用途や条件に応じたシステムが提案できます。

名称 化学式 毒性 可燃性 腐食性 用途
純水 H2O - - -  
テトラエトキシシラン
(TEOS)
Si(OC2H5)4 - 半導体の絶縁膜
メタノール CH3OH - カーボンナノチューブ(CNT)の生成
エタノール C2H6O - カーボンナノチューブ(CNT)の生成
トリメチルガリウム TMGa ◎※ - LEDの発光層成膜
トリエチルガリウム TEGa - LEDの発光層成膜
トリメチルアルミ TMAl - LEDの発光層成膜
ジエチル亜鉛
(DEZ)
Zn(C2H5)2 - 太陽電池やタッチパネル等の
透明導電膜(TCO)成膜
ヘキサメチルジシロキサン
(HMDSO)
(CH3)3SiOsi(CH3)3 タッチパネル等の
ハードコート(HC)
トリクロロシラン
(TCS)
SiHCl3 エピタキシャル成長/シリコン製造
テトラ-i-プロポキシチタン
(TTIP)
Ti(i-OC3H7)4 タッチパネル等の
反射防止膜(ARC)
オキシ塩化リン PoCl3 - 結晶系太陽電池の発電層
四塩化チタン TiCl4 - 工具等のチタンコーティング
四塩化ケイ素 SiCl4 - 光ファイバー等の合成石英
四塩化ゲルマニウム GeCl4 - 太陽電池やタッチパネル等の
透明導電膜(TCO)成膜
四塩化スズ SnCl4 - 太陽電池やタッチパネル等の
透明導電膜(TCO)成膜

※ ◎ : 自然発火性