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SEMICON Japan 2016 HORIBAブース

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真空計測・制御
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出展者セミナー

① 次世代プロセスに期待される非接触計測の提案
次世代プロセスに期待される非接触計測の提案半導体先端プロセスの評価・解析に応用可能なHORIBAグループの非接触計測をご提案いたします。
HORIBAのコアテクノロジーである光技術を利用した粒子解析・元素分析・分子構造解析を測定事例と共にご紹介。

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日時:
12月15日(木) 13:40-14:30

②薄膜プロセスにおける真空計測・制御技術とアプリケーションの提案 ~研究開発から生産工程まで~
IoTをはじめとする自動車、医療、ヘルスケア等の分野における各種電子デバイス市場の薄膜プロセス向け
真空計測・制御技術および各種アプリケーションをご紹介いたします。


日時:
12月16日(金) 13:40-14:30

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