化合物系CIGS太陽電池の研究・開発から製造プロセス、評価まで、HORIBAは分析・制御技術のトータルソリューションを提案しています。

Compound CIGS Image Map DI Water Analysis/Waste Water Monitoring Chemical Solution Monitoring Material Analysis Fluid Control Film Deposition Process Control/Thin Film Analysis

関連製品

各工程に最適なHORIBAの分析・制御装置をご覧いただけます。

純水計測/排水モニタリング

2チャンネル比抵抗計 HE-960RW-GC

2箇所の比抵抗を同時測定・同時出力 耐薬品性センサ採用

Automatic COD Monitor CODA-500

最新技術と伝統技術で可能になった、低ランニングで最高性能の自動COD測定装置 CODA-500。

2チャンネル導電率計(低濃度タイプ) HE-960CW

純水や注射用水などの電気伝導率(導電率)を高精度に計測

半導体製造プロセス向超純水管理用

最高感度0.01μg/L(0.01ppb)で、極低濃度のシリカを測りたいという要求に確実にお答えします

製品画像

生産終了いたしました。後継機種はH-1シリーズHC-200Fをご参照ください。

TPNA-500

河川・湖沼・閉鎖性海域等の全窒素・全りん濃度を高精度で測定する装置です。測定試薬の長寿命化、消費電力の削減などにより、ライフサイクルコストの低減を実現しました。

薬液濃度モニタ製品一覧ページへ移動します

素材解析

エネルギー分散型X線分析装置 EMAX ENERGY EX-250/350/450

【最新モデル】 エネルギー分散型X線分析装置 EMAXEvolution EX-270/370/470はこちら

 

 電子顕微鏡と組み合わせて微小領域の異物解析、組成分析に最適です。分析業務全体をわかりやすくサポートするフローチャート形式のナビゲータを搭載。高度な機能を使いやすく−これからのX線分析装置の姿です。

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2

rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

顕微レーザーラマン分光測定装置 LabRAM HR Evolution

多くの科学研究者の皆様にはLabRAM HRシリーズを10年以上にわたりご利用いただき、 23,000件を超える学術報告にLabRAM HRシリーズのデータが掲載されています。LabRAM HR Evolutionは、紫外~近赤外領域における高いスペクトル分解能測定を継承するとともに、サブミクロンスケールの空間分解能、オートメーション機能を強化した最高峰の顕微ラマン分光装置です。

シリコン中不純物定量分析用フォトルミネッセンス測定装置 Photoluminor-D

フォトルミナーDはシリコン中の微量不純物分析用途を目的として開発されました。

X線分析顕微鏡 XGT-7000V

10μmの革命!真空チャンバ(デュアル・バキューム・チャンバ)装備によりサンプル形態・分析目的に合わせ、分析環境を切替、軽元素の高感度分析が可能!高純度Si半導体検出器搭載。

マスフローコントローラ製品一覧ページへ移動します

成膜プロセス制御/薄膜分析

自動薄膜計測装置 Auto SE

薄膜(膜厚)測定で、より簡単に最大の効果を

新しい膜厚測定ツールとして開発された"Auto SE"は、プッシュボタン感覚での薄膜サンプルの自動測定を可能としております。サンプル分析は厚い膜でもわずか数秒で実施でき、膜厚・屈折率・表面ラフネス・膜不均質性などを含む分析結果をレポート形式にて提供いたします。"Auto...

New Uvisel 2

販売を終了いたしました。