結晶シリコン系太陽電池の研究・開発から製造プロセス、評価まで、HORIBAは分析・制御技術のトータルソリューションを提案しています。

Crystaline Silicon Impurity Control Material Analysis DI Water Analysis/Waste Water Monitoring Film Deposition Process Control/Thin Film Analysis Fluid Control Chemical Solution Monitoring

関連製品

各工程に最適なHORIBAの分析・制御装置をご覧いただけます。

酸素・窒素・水素分析装置 EMGA-930

鉄鋼、新素材、触媒など世界最先端技術の技術開発や品質管理に欠かせない高精度でスピーディな元素分析を実現するツール。ユーザの要望を最大限に反映させた新世代モデル。

EMIA-Expertは、ロングライフメンテナンスと直感的な操作が可能な上、より高精度な分析を実現するための機能を追加し、今後増加する要求を満たすために開発した装置となっています。

エネルギー分散型X線分析装置 EMAX ENERGY EX-250/350/450

【最新モデル】 エネルギー分散型X線分析装置 EMAXEvolution EX-270/370/470はこちら

 

 電子顕微鏡と組み合わせて微小領域の異物解析、組成分析に最適です。分析業務全体をわかりやすくサポートするフローチャート形式のナビゲータを搭載。高度な機能を使いやすく−これからのX線分析装置の姿です。

Ultima Expert

高い性能と操作性を実現したシーケンシャル型ICP発光分析装置の究極形

X線分析顕微鏡 XGT-7000V

10μmの革命!真空チャンバ(デュアル・バキューム・チャンバ)装備によりサンプル形態・分析目的に合わせ、分析環境を切替、軽元素の高感度分析が可能!高純度Si半導体検出器搭載。

素材解析

エネルギー分散型X線分析装置 EMAX ENERGY EX-250/350/450

【最新モデル】 エネルギー分散型X線分析装置 EMAXEvolution EX-270/370/470はこちら

 

 電子顕微鏡と組み合わせて微小領域の異物解析、組成分析に最適です。分析業務全体をわかりやすくサポートするフローチャート形式のナビゲータを搭載。高度な機能を使いやすく−これからのX線分析装置の姿です。

顕微レーザーラマン分光測定装置 LabRAM HR Evolution

多くの科学研究者の皆様にはLabRAM HRシリーズを10年以上にわたりご利用いただき、 23,000件を超える学術報告にLabRAM HRシリーズのデータが掲載されています。LabRAM HR Evolutionは、紫外~近赤外領域における高いスペクトル分解能測定を継承するとともに、サブミクロンスケールの空間分解能、オートメーション機能を強化した最高峰の顕微ラマン分光装置です。

シリコン中不純物定量分析用フォトルミネッセンス測定装置 Photoluminor-D

フォトルミナーDはシリコン中の微量不純物分析用途を目的として開発されました。

X線分析顕微鏡 XGT-7000V

10μmの革命!真空チャンバ(デュアル・バキューム・チャンバ)装備によりサンプル形態・分析目的に合わせ、分析環境を切替、軽元素の高感度分析が可能!高純度Si半導体検出器搭載。

2チャンネル比抵抗計 HE-960RW-GC

2箇所の比抵抗を同時測定・同時出力 耐薬品性センサ採用

Automatic COD Monitor CODA-500

最新技術と伝統技術で可能になった、低ランニングで最高性能の自動COD測定装置 CODA-500。

2チャンネル導電率計(低濃度タイプ) HE-960CW

純水や注射用水などの電気伝導率(導電率)を高精度に計測

半導体製造プロセス向超純水管理用

最高感度0.01μg/L(0.01ppb)で、極低濃度のシリカを測りたいという要求に確実にお答えします

製品画像

生産終了いたしました。後継機種はH-1シリーズHC-200Fをご参照ください。

TPNA-500

河川・湖沼・閉鎖性海域等の全窒素・全りん濃度を高精度で測定する装置です。測定試薬の長寿命化、消費電力の削減などにより、ライフサイクルコストの低減を実現しました。

薬液濃度モニタ製品一覧ページへ移動します

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2

rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

コンパクトプロセスガスモニタ MICROPOLE System

チャンバ内に存在するガス成分をモニターする四重極質量分析計。

POCl3 Auto Refill System VDM Series

HORIBA POCl3自動供給装置は、高い生産性、コスト削減、プロセス安定性、高い安全性、信頼性を実現しています。

液体材料気化システム MI-1000/MV-1000 series

気液混合気化方式を採用した小型液体材料気化システム。液体材料の高効率気化を実現。

オートリフィルシステム LU Series

液体材料を「安全に」「無駄なく」「迅速に」液体材料気化システムへ自動供給できるオートレフィルシステム

マスフローコントローラ製品一覧ページへ移動します

流体制御(ガス濃度モニタリング)

チャンバークリーニング終点検知用ガスモニタ IR-422 Series

プロセス装置に搭載し排ガス成分(SiF4、CF4)をリアルタイムにモニタリング可能。

ガス濃度モニタ IR-300 Series

バブリング供給ライン用インラインガス濃度モニタ。材料ガスの安定供給に。