マスク・リソグラフィープロセス

半導体製造プロセスにおける異物検出

レティクル／マスク異物検査装置 PD Xpadion EX

異物検出・除去を１台で完結、半導体製造プロセスの効率化・歩留まり向上を徹底追求

半導体製造の露光工程に欠かせない異物検査装置の「PD」シリーズは、1984年の発売以来、お客様のニーズに応えながら進化を続け、今年で40年の節目を迎えました。

新製品「PD Xpadion EX」には、好評をいただいている従来機「PD Xpadion」をベースに異物除去機能を搭載し、検出から除去まで１台で完結することが可能となりました。さらに、レティクル／マスクの自動搬送に対応するユニットを自社開発し、半導体製造プロセスの効率化と歩留まり向上に貢献します。

半導体産業における分析・計測・制御ニーズは、これまでにないスピードで高度化・多様化しています。「PD Xpadion EX」は、異物の成分分析やペリクル^※１の膜厚測定などもワンストップで行うことのできる機能拡張に取り組んでおり、今後も新たな可能性を提示してまいります。

特長

１．異物検出・除去工程の一体化により、作業効率・歩留まりを向上

95%以上の異物除去率^※２を誇る当社のレティクル/マスク自動異物除去装置「RP-1」の機能を「PD Xpadion」と一体化。異物の検出から除去まで自動で行うことを可能としました。また、レティクル／マスクが格納されたケースを2式同時にセットできるマルチポートも備えており、連続的に異物検出・除去を行うことができます。

２．自動搬送装置との連携により、製造プロセスの自動化・省人化を促進

半導体製造工場内のOHT（Overhead Hoist Transport：搬送物を吊り下げた状態で保持し、天井に設置された軌道レールを走行する自動搬送装置）との連携に必要とされるEFEM（Equipment Front End Module：レティクル／マスクをOHTと異物検査装置の間で受け渡すユニット）を自社開発しました。お客様が求める仕様へ柔軟に対応し、生産性向上や人手不足の解消、製造エリアのスリム化を図るために重要とされる自動化・省人化に貢献します。

^{※１レティクル／マスクのパターン面への異物付着を防ぐための防塵膜
※２ガラス面に5μｍのガラスビーズが付着した状態での社内テストによる結果。使用方法や条件によって効果が異なる場合があります。}

事業セグメント: 半導体
製品分類: Metrology
製造会社: HORIBA, Ltd.

レティクル/マスク異物検査装置　PD Xpadion

PD Xpadion

PD Xpadionは、光学／ステージ設計、さらに基幹ソフトウェアを含む全てのプラットフォームを一新。
高い稼働率と長期安定性はそのままに、操作性を大幅に向上しました。信頼性の高い光学系による「スキャン」、新規機能を加えた「レビュー」、革新的なセンサーとの組合せによる「アナライシス」といったオートメーションへの拡張機能を強化し Smart Factory対応を実現します。

特長