半導体製造工程で使用される混合液の各成分濃度を最大8成分、リアルタイムに高精度測定します。

プロセスの要求に応える［高温ダイレクト測定］［長期安定性能］［コンパクトボディ］で、洗浄工程の効率向上に貢献。

実現！　インライン・マルチモニタリング。

マルチバス、ワンバス、枚葉各方式の洗浄装置に対応。

テクスチャー構造形成のプロセスの最適化に貢献します。

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適、低濃度のフッ酸・塩酸・アンモニアを高精度に測定

【新製品】

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適な、低濃度から高濃度までのフッ酸・塩酸を高精度に測定するHF/HCl濃度モニタ

半導体プロセスの微細化にマッチした接液部完全PFAセンサ対応のHF濃度計。0 - 50%の測定レンジを網羅可能。

ウェットプロセスにおける硫酸・過酸化水素中のppmレベルのフッ酸濃度管理を実現

2ch HF濃度計 HF-SP-CUは2chの入力をもつHF濃度計です。半導体プロセスなどで使用される高精度なHF濃度のモニタリングを１台で2chの測定を行うことができます。

高精度センサ FS-07F-T3.5との組合せ使用。

耐薬センサを採用した高精度、ワイドレンジKOH濃度モニタ。測定範囲：0 - 20%（濃度）

耐薬センサを採用した高精度TMAH濃度モニタ。測定濃度範囲 0 - 3%。

【新製品】

フォトレジスト現像液の主成分TMAH濃度を耐薬性の高いカーボンセンサと組み合わせてワイドレンジを高精度に計測

溶存オゾンモニタ　HZ-960はPost Cleaning、FEOL　プロセスでのクリーニング処理、高濃度オゾン水によるレジスト剥離処理、など半導体Wet処理プロセスで使用されるオゾン水の溶存オゾン濃度モニタです。

過酸化水素水モニタ　HZ-960HPO-Mは半導体や太陽電池の洗浄プロセスにおいてパーテクル除去や不純物金属イオン除去に使用される過酸化水素水の濃度をモニタリングします。

HF中の超低濃度溶存酸素濃度が測定可能。ug/Lオーダーからmg/Lオーダーまで３つの測定レンジの自動切り替え装置搭載。少量サンプルも測定できます。耐薬センサ対応。

リン酸濃度モニタ HE-960H-PA は半導体エッチングプロセスで使用されるリン酸（リン酸単液）（濃度:80-90wt％ 温度:20-100℃以内）の濃度をモニタリングすることができます。

HE-960R-GCは、ガラスカーボンをセンサに用いた比抵抗計です。

2箇所の比抵抗を同時測定・同時出力 耐薬品性センサ採用

高精度な温度補償性能を持つコンパクト比抵抗計。様々な用途にお使いいただけます。測定範囲は0 - 100.0 MΩ・cm

半導体ウェットプロセスの薬液測定および純水回収に最適

【新製品】

半導体製造やFPD製造工程の薬液・排液管理に最適な導電率計。耐薬性の高いカーボンセンサと組み合わせワイドレンジを高精度に計測。

低濃度タイプのカーボンセンサ導電率計。耐薬品性に優れた2極式カーボンセンサを採用。測定濃度範囲：0 - 1000 μS/cm, 0 - 10000 μS/cm (Sensor FS-07F)

半導体プロセスにおける薬液温度測定用に開発された耐薬品性能の高い温度センサです。