*HORIBA France
半導体産業における二次元材料の活用は半導体デバイスの性能および効率を向上させるパラダイムシフトをもたらす。グラフェンや遷移金属ダイカルコゲナイド（TMD）は数々の二次元材料の中でも特に注目されており，様々な半導体用途に適しているユニークな性質を持つ材料である。しかし，その特性を生かすには合成方法における課題の克服やより正確な特性評価が求められる。本稿では半導体産業における二次元材料の未来を拓くための特性評価およびウェハの検査方法が果たす役割について述べる。特にスケールアップを実現する合成方法，均一性が高く欠陥が少ない材料の実現における課題に焦点を当てる。また，半導体分野への二次元材料の適用に欠かせない特性評価手法であるラマン分光法やフォトルミネッセンス（PL）についても述べる。
