「2018堀場雅夫賞」 募集開始 

 
対象テーマは「半導体製造プロセスにおける先端分析・計測技術」

当社は、2003年に創設した研究奨励賞「堀場雅夫賞」の第15回となる本年度募集を、3月1日から開始します。今回の対象テーマは「半導体製造プロセスにおける先端分析・計測技術」です。本賞は、毎年テーマを定め、多数の研究者の皆様から応募をいただき、その中から毎年3名の研究者を表彰しています。分析・計測技術発展の将来の担い手となる方々の画期的でユニークな研究を支援することで、分析・計測技術の発展の一助になればと願っています。弊社の社是である「おもしろおかしく」を研究の場で実践されている研究者・技術者の積極的な応募を期待しています。

 

今回の募集対象:半導体製造プロセスにおける先端分析・計測技術

半導体デバイスの製造プロセスの中でも特に重要な、薄膜形成プロセスやエッチングプロセスの制御に寄与できる先端分析・計測技術を募集します。

  • モニタリングポイントは、加工される薄膜部位のみならず、チャンバー内や材料供給系も含み、プロセスの高効率化・省エネ・歩留まり向上や、形成されたデバイスの特性向上に寄与する技術を対象とします。
  • 本応募における半導体製造プロセスは、集積回路(ロジック、メモリ、アナログIC)、オプトエレクトロニクス(ディスプレイ、LED、太陽電池)、ディスクリート(ダイオード、パワー半導体)、センサ(温度センサ、圧力センサ)など幅広いデバイス形成のためのプロセスとします。
  • 薄膜材料となる新規材料に関する研究や薄膜特性の分析に限定した研究は除きます。

 

応募要綱                 
応募資格 国内外の大学または公的試験研究機関に所属する方
募集分野「半導体製造プロセスにおける先端分析・計測技術」
応募期間2018年3月1日~5月18日
審査方法審査委員会が応募書類に基づき実績と将来性を審議し決定
発表7月末予定
賞の内容

受賞者には、賞状及び副賞を授与副賞は1件あたり金200万円(100万円/年×2年)を授与します。(応募資格の継続が条件となります)

 

授賞式および受賞記念セミナー

2018年10月17日(水)に京都大学医学部創立百周年記念施設 芝蘭会館(京都市左京区吉田牛の宮11-1)にて実施します。
(受賞者による講演やポスターセッションを通して、研究内容を広く社会にアピール)
応募方法応募書類など詳細は、本賞ホームページに掲載: http://www.mh-award.org
応募・お問い合わせ先

〒601-8510 京都市南区吉祥院宮の東町2番地  株式会社堀場製作所内 堀場雅夫賞事務局
TEL:075-325-5110 / E-mail: info@mh-award.org

 

審査委員会
審査委員長金山 敏彦:
産業技術総合研究所 フェロー
海外審査委員Srini Raghavan(シリーニ ラガヴァン):
Professor, University of Arizona(アリゾナ大学 材料・化学・環境・工学部 教授)
審査委員白谷 正治:
九州大学大学院 システム情報科学研究院 情報エレクトロニクス部門 主幹教授
審査委員寺本 章伸:
東北大学 未来科学技術共同研究センター 教授
審査委員渡邊 健夫:
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長 教授
審査委員 井上 正規:
株式会社 堀場エステック 開発本部 研究開発部 部長
審査委員 藤井 哲雄:
株式会社 堀場エステック 事業戦略室
実行委員長足立 正之:
株式会社堀場製作所 代表取締役社長
アワードディレクター堀場 厚:
株式会社堀場製作所 代表取締役会長兼グループCEO
オブザーバー石田 耕三:株式会社堀場製作所 上席顧問

 

半導体製造プロセスにおける先端分析・計測技術

蒸気機関の発明による第1次産業革命、電気と石油による大量生産の第2次産業革命、コンピュータによる自動化の第3次産業革命に続き、IoT(Internet of Things)とAI(人工知能)による第4次産業革命が始まっています。このような産業構造の大きな変革を支える礎として半導体の重要性はますます高くなっており、次世代の半導体デバイスにおいては、デバイスの微小化、性能や信頼性の向上を効率良く行えるプロセス技術が求められております。
本年の堀場雅夫賞は、産業の発展に不可欠な半導体デバイスの製造プロセスの中でも特に重要な、薄膜形成プロセスやエッチングプロセスの高度化に寄与する分析・計測技術を募集対象とし、新たな価値の創造につながる研究開発にスポットを当てます。

 

ご参考

賞の背景

創業者の堀場雅夫が学生ベンチャーの草分けとして興した当社の歴史は、国産初のガラス電極式  pHメータの開発から始まり、今日までその分析対象を液体・気体・固体分野へと拡大しながら、総合分析機器メーカーとしてグローバルに事業を拡大してきました。その発展を支えてきたものの一つに、創業当初からの大学や研究機関との連携があり、地道に基礎的な研究開発に取り組んできた研究者・技術者の努力が大きな原動力となっています。21世紀を迎え、分析・計測の重要性が社会的にも増してくる中、分析・計測技術の分野で、新たな起業・事業化の源となりうるアカデミックな研究・開発を支援するため、創業者の名前を冠した「堀場雅夫賞」を2003年創設しました。

 

賞の趣旨

本賞は、画期的な分析・計測技術の創生が期待される研究開発に従事する国内外の研究者・技術者を支援し、科学技術における分析・計測技術の価値をより一層高めることを目的とします。毎年対象分野を定めることで、その成果や今後の発展性を世界的にアピールするべき研究・開発に焦点を当てていきます。基礎から応用まで、対象分野においてユニークな研究開発に「おもしろおかしく」従事され、将来の分析・計測技術発展の担い手となられる方々の積極的な応募を期待しています。

 

故・堀場 雅夫 (創業者)について

1945年10月、京都帝国大学(現京都大学)理学部在学中に、当社前身の堀場無線研究所を京都に創業。今で言う学生ベンチャーの草分けとして出発。学生時代の専攻は核物理で、大学教授であった父・信吉氏と同じく、卒業後は大学に残って研究者になる道を志していた。しかし、終戦と同時に米軍が、サイクロトロン破壊など原子核関係の研究・実験を禁止する措置を取り大学での研究を続けられなくなった。自由に実験や研究ができる私設研究所をつくろうと決心したのが創業のきっかけ。
1953年1月、株式組織に改組し社長に就任。堀場無線研究所時代に電解コンデンサーを開発し事業化を試みるが、朝鮮戦争のインフレのため計画は頓挫。代わりに、コンデンサー生産のために開発したpHメータを商品として売り出し、現在の株式会社 堀場製作所を設立した。設立当時から大学との産学協同体制で、次々と新しいpHメータを開発。現在までに至る事業の基盤を確立した。1978年、53歳で会長に就任。この時、人生哲学でもある「おもしろおかしく」を社是に制定。会長に就任後は、日本の中小企業、ベンチャー企業の支援や京都の活性化、また将来の社会を担う人材を育成するため、根本的な教育改革のためにも力を尽くした。なお、2006年3月、革新的で情熱的な起業家として世界各国の研究や業績を支援する製品をもって地球規模の計測機器ビジネスを創始した活動は、分析化学分野の発展への貢献大として、米国「Pittcon Hall of Fame」(分析化学界の殿堂入り)を、欧米人以外で初めて果たした。2015年7月に永眠(満90歳)。