HORIBA最先端技術開発センター(仮称)を堀場エステック本社拠点に開設

|   Press Release

半導体部門の開発・生産機能を堀場エステック本社拠点に結集
堀場エステックの本社増築工事を10 月着工 1.3 倍に増床

当社は、子会社でHORIBA グループの半導体事業の主軸を担う(株)堀場エステックの本社棟東側にクリーンルームおよび実験ラボを増築し、「HORIBA 最先端技術開発センター(仮称)」を開設します。10 月に着工し、来年中に完成予定で総工費30 億円。これにより、新開発センターを含む総延べ床面積は9,800 平方メートルと同拠点の面積は現在の約1.3 倍になります。増築後には、2,700平方メートルのクリーンルームを有し、現在、4 ヶ所に分散している半導体関連事業の開発・生産機能を同センターに結集させます。当社グループの分析計測機器の心臓部と言える半導体センサーの開発・生産を堀場エステックが持つ流体制御技術と融合させ、開発スピードの加速、製品の小型化と生産品質の一層の安定化を図ります。

当社では、1997 年から本社内3 ヶ所に点在するクリーンルームで半導体センサーを生産しており、半導体プロセス技術やMEMS 技術を用いて、「前工程→成膜/MEMS 工程→実装工程」を経て、当社の分析・計測機器に搭載しています。一方、堀場エステックでは、主力のマスフローコントローラー(*1)の量産を熊本県の阿蘇工場で、特殊型式や最新機種の生産および新製品開発を京都本社で行っています。
半導体技術を応用した小型軽量の半導体センサーは、創業製品のpH メーターをはじめ自動車排ガス測定装置や煙道排ガス測定装置、さらには温度計や放射線測定器といったモニター機器にいたるまで、当社グループの5 事業(自動車/環境・プロセス/医用/半導体/科学)全ての製品で使用しており、製品を小型化するだけでなく分析・計測精度を左右する心臓部です。

HORIBA グループが有する最先端の技術開発チームをこのセンターに結集させることでグループ会社がそれぞれ持つノウハウを有効活用し、コア技術を中心とする製造技術の強化を図ります。1 ヶ所統合により、MEMS 技術を使った小型・高感度なセンサー開発の時間短縮を実現し、分析・計測機器の小型軽量化を推進します。


<HORIBA 最先端技術開発センター(仮称)について>

建屋面積550 平方メートル (既存:1,830 平方メートル)
延床面積2,085 平方メートル (既存:7,700 平方メートル)
建屋構造4 階建て 鉄骨構造(既存:事務棟/開発・製造棟5 階建て)
新規・移設設備(新規) 成膜/MEMS 工程の製造装置
(移設) 前工程、成膜/MEMS 工程、実装工程の製造・評価設備
移設人員25 名

 

用語解説

(*1)マスフローコントローラー
流体(ガス・液体)の精密流量計測・制御機器