半導体製造プロセスにおいて、ガスや液体の流量制御、液体の気化技術、製造装置内での真空計測は、いずれも不可欠な要素です。
本ウェビナーでは、流体制御およびプロセスコントロールの基礎的な内容をご紹介し、プロセスの品質向上に役立つ知識をご提供します。
ぜひご参加ください。

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このような課題をお持ちの方におすすめです

  • 微細加工を実現するための微小流量/高速応答など高度な流量制御ができずに悩んでいる
  • 製品の品質のばらつきを極小にするために、真空チャンバー内の雰囲気や異常を見える化したい
  • 装置メンテナンス時期の事前把握やダウンタイムの改善を求めている

開催概要

タイトル:半導体産業向け 流体制御からプロセスモニタリングの基礎 
日時:2025年12月9日(火)10:00~10:45

開催形式:オンライン(Zoom : お申込み後 視聴用URLをお送りいたします)
参加費:無料

※ オンラインでの開催ですので、会社や自宅のパソコンやモバイルからご自由にご参加いただけます。
※ 同業他社および当社の競合にあたる企業の方のお申し込みは、ご遠慮いただく場合がございます。 何卒ご了承ください。
※ 本セミナーは2025年11月13日に実施したオンラインセミナーの録画配信です。

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