UVISEL In-Situ Spectroscopic Ellipsometer


UVISEL In-Situ Spectroscopic Ellipsometer는 process chambers(PECVD, MOCVD, sputter, evaporation, ALD, MBE)로의 설치가 용이하고, 빠른 측정 속도, 높은 감도와 정도를 가지고 있으므로 deposition / etch processes에서의 실시간 박막 두께 컨트롤이 가능하다.

UVISEL In-Situ Spectroscopic Ellipsometer는 DeltaPsi2 software platform에 의해 작동되며, DeltaPsi2는 모든 HORIBA Jobin Yvon thin film metrology 장비에 공통적으로 사용되어 지고 있다. 이 software는 실시간 데이터 측정 및 모델링 기능을 제공하고, TCP/IP와 RS232 를 포함하는 통신 프로토콜을 지원하여 요구 되어지는 생산 환경에 맞게 디자인할 수 있다.


  • Highest speed and accuracy
  • Fully integrated software package for real-time measurement, modelling and reporting
  • Easy switch between in-situ and ex-situ configurations

Obtained information

  • Thin film thickness
  • Optical constants (n,k)
  • Material composition

제조원 HORIBA Scientific


  • Spectral ranges: 210-880 nm - 190-880 nm - 245-2100 nm - 190-2100 nm
  • Light source: 75W Xe lamp or 150W Xe lamp
  • Data acquisition time: 50ms / determination
  • Detection: Single point or real-time spectral acquisition using high sensitivity, wide dynamic range PMT detectors or scanning monochromator for in-situ measurement in working environment for thin film deposition/etch control
  • Spot size: 1 x 3 mm
  • Mechanical adaptation: CF35 or KF40 Flange