체임버클리닝종점검지가스농도 모니터 IR-200
개요
반도체 제조의 성막 프로세스는, 미세 가공의 진보에 수반해, 처리 후의 챔버를 항상 깨끗한 상태에 유지하는 것이, 생산성 향상에 중요해지고 있습니다.IR-200은, 체임버 클리닝 프로세스에 대하고, 클리닝 가스로서 이용되고 있는 불소계 가스와 실리콘과의 반응 생성 가스인 SiF4 가스 농도를 리얼타임에 모니터링 해, 클리닝 종점의 판별을 합니다.
기능
컴팩트 설계, 배기 라인에의 편성
가스 셀 가열에 대응(최대: 150℃)
제조원 HORIBA
사양
모델 | IR-200 |
|---|---|
측정가스종 | SiF4 |
측정농도범위 | 0～5000ppm(0～500Pa) |
반복성 | ±1%F.S. |
가스셀광로길이 | 30mm |
응답속도 | T90: 30초 이하 |
가스셀광내압력 | 0.3MPa(G) |
가스셀광가열온도 | 150℃(최대) |
가스잡촉부재질 | SUS-316L、BaF2、FKM |
리크레트 | 1×10-10Pa・m3/s |
배관 | NW25플랜지 |
아날로그출력 | DC 4-20mA |
접점출력 | ERR、High、Low알람의 3채널 |
접점일력 | 제로 교정용으로서 1채널 |
전원 | DC 24V、30W(최대) |
외형치수 | 센서유니트： 150×268×90mm 컨트롤유니트： 96×130×48mm |
질량 | 센서유니트：약4.5kg 컨트롤유니트：약0.5kg |