
마스크 이물 검사 장치 PR-PD2HR
개요
높은 수율로 효율적인 이물 검사•측정을 실현.
높은 가동률과 안정성 등, 수많은 고성능•고기능으로 많은 반도체 제조 현장에서 높게 평가되고 있는 HORIBA의 Reticle/Mask 이물 검사 장치 PD시리즈 입니다. 긴시간 안정적으로 가동되는 반송계와 고수율과 고성능 기능을 한층 더 독자적으로 개발한 신호 처리 방식에 의해 Pr-PD 시리즈중 최고 감도로 최소 0.35μm의 미세 이물 검출을 가능하게 한 것이, 이 Reticle/Mask 이물 검사 장치 PR-PD2HR입니다.
각종의 스텝퍼 케이스에 대응하며, 최대 10단까지의 다단 소타나 기능과 함께 각종 통신 기능도 충실합니다. PD시리즈만이 가능한 넓은 범용성으로 Reticle/Mask 상의 이물 검출은 물론, 유리/Paticle 각 면을 고수율로 측정해, 모든 반도체 제조 라인의 제품 비율 향상에 뛰어난 성능을 발휘합니다
기능
* 최소 검출 감도가 0.35μm 입니다.
레이저 산란 방식과 독자적인 신호 처리 방식을 채용하여, 최소 0.35μm의 이물질 검출이 가능합니다.Reticle/Mask폭 1.0μm이하, 라인간 1.0μm의 패턴 판별 기능에 의하여, 검출 오차를 최소한으로 억제합니다.
* 각종 스텝퍼 케이스에 대응 할 수 있습니다.
* 최대 10단계까지 가능한 다단 소타는, 각종 스텝퍼 케이스를 비롯하여, SMIF-POD에도 대응 할 수 있으며, 여러 메이커나 다른 사이즈의 스텝퍼 케이스와 호환이 가능합니다.
* 조작은 간단하며,DMS로 데이터 관리도 자유자재로 할 수 있습니다.
Reticle의 크기, 검사의 형상, 검사 표면의 Area, Level 등 다채로운 검사 조건을 설정할 수 있어, 측정 조작은 매우 간단합니다.또한, 측정 결과는 이물질의 크기에 의해서 매핑 표시되어 검출 조작중에 기판상에서 발견된 이물질을 매트릭스로 실시간 표시할 수 있습니다. 검사 결과는 LAN을 통해,데이터 베이스 서버에 보존되어, DMS(데이터 관리 소프트)에 의해서 데이터 관리, 각종 리포트 출력, 사용자 조건의 설정 등 다채로운 관리가 가능합니다.
제조원 HORIBA
사양
Principle | Polarized laser scattering method |
Inspection object | Reticle/mask with or without pellicle |
Detector | Photomultiplier |
Light source | Argon laser 488 nm, 10 mW |
Reticle/mask size | 5" x 5", 6" x 6", 2.3 to 6.3 mm thickness (maximum 1/4") |
Pellicle | Thickness: 0.865 to 2.85 µm (±0.2 µm) Frame height: |
Detectable particle size | Pattern surface: 0.35 µm or larger |
Detectability | Standard mode: More than 90% of 0.35 µm particles. |
Particle level setting | Pattern surface: 0.25 to 10 (3 steps) |
Inspection area | Shape: Square, rectangle, circle Area: |
Inspection result | LCD display: |
Particle observation | LCD screen observed from top and bottom side. |
Standard function | Automatic review (skip) function, Coordinate origin setting/rotation compensation function, Inspection center function, Map display insert/delete function, Bar code ready (Hard ware option) |
Optional functions | Pellicle only inspection, Mask blank inspection, Inspection of additional substrate size, 2 way data communication (GEM or SECS2) |
Dimensions | 1710 (W) x 1540 (H) x 1400* (D) mm |
Weight | Approx. 1000kg/2222 lbs |
| |
UTILITIES | |
Installation site | Clean bench: Class 10 or better |
Power | 200/210/220/240 V AC ±10 V (Customer specified), single phase 4k VA, 50/60 Hz |
Vacuum source | Pressure difference: 8.0 x 104 Pa or more 50 L/min |