药液分析(湿制法)
CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清除作业中所使用的SPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)各成分浓度，通过报警信号通知自动补给的时间。由于实现了高速响应性和短的检测周期，可以忠实地跟踪浓度变化，并且，由于小巧化设计，可以更容易组装到清洗装置中。
CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。
监测半导体制造工艺中清洗、形成氧化膜等作业中所使用的臭氧水浓度。它是直接安装在主配管中、可以进行连续监测的臭氧水浓度监测仪。不需要用旁通管路来进行检测。本产品通过臭氧发生装置以及对使用点进行近似测量。
工业用比电阻计HE-480R是具有高精度温度补偿性能的比电阻计。
它最适合于连续监测在半导体领域以及电子・食品・医药品等各种领域的制造工艺中所使用的超纯水 。
