Semiconductor wet process monitor, CS-100F1 Series image

在线多样监测!!

适用于使用批次式、单槽、单晶圆各方式的清洗装置。

Standard Clean 1 (SC-1) chemical concentration monitor image

适合于使用单槽或多槽方式的清洗装置

外形小巧、响应快速的SC-1溶液浓度计

Hydrofluoric Acid Monitor CM-200A/210A

实时显示半导体制造工艺中的氢氟酸浓度

Low Concentration Type HF/HCl/NH3 Concentration Monitor

高精密测量出低浓度氢氟酸,盐酸和氨气

High Sensitive HF Concentration Monitor HF-700

用于测量半导体湿法制程中稀硫酸/双氧水中的HF浓度

CS Series Monitors

高速响应、小型化的化学药液浓度计,TMAH/H2O2药液浓度计是单晶圆和批次式清洗设备的理想之选

SPM Monitor image

CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪,实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清除作业中所使用的SPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)各成分浓度,通过报警信号通知自动补给的时间。由于实现了高速响应性和短的检测周期,可以忠实地跟踪浓度变化,并且,由于小巧化设计,可以更容易组装到清洗装置中。

FPM Monitor / CS-153

24小时实时监测半导体湿法蚀刻中的FPM药液浓度

CS-153N HF/HNO3 Monitor

24小时实时监测半导体湿法蚀刻中的HF/HNO3药液浓度

BHF monitor image

CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化,可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制,可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内,同时,还可以避免不必要的药液更换工作。

Appearance of CS-152, SC-2 monitor

CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化,可用于监测清除金属离子时所使用的SC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制,可以确保SC-1溶液的浓度保持在允许范围内,同时,还可以避免不必要的药液更换工作。由于测量周期短,可以精确地跟踪浓度变化,小巧化设易于组装到清洗装置中。

Indication Converter HF-960H

[新]

可用于测量高浓度氢氟酸、盐酸等

Indication Converter HE-960H-TM

在开发处理中能够理想地测量出TMAN浓度

Converter HE-960HC

可用于在半导体和FPD制造过程中管理化学品和液体废物

Carbon Sensor Resistivity Meter HE-960R-GC

炭质传感器电阻率计HE-960R-GC — 炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能,可应用于单槽清洗设备

炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能,可应用于单槽清洗设备

Carbon Sensor Resistivity Meter HE-960RW-GC

HE-960RW-GC可连接两个传感器并可同时进行测量。

一台变换器可同时进行高性能高精度地测量和输出2个不同位置的电阻率。

HP-480 the industrial ph meter

工业用pH计 HP-480是标准型pH计,它主要搭载了使用频率高的功能。 可以适用于工业废水的排放水监测以及各种工业领域中制造工艺的监控、质量检查、水产、养殖等广泛的用途 。

 

 

Conductivity Meter High Concentration Type HE-480H

工业用导电率计 HE-480H是采用了4电极法的高浓度类型导电率计,它可以进行0〜50S/m的宽量程检测。用途广泛,包括各种药液的浓度管理以及水栽液体肥料的浓度管理等 。