Spectroscopic Ellipsometry Solutions for Thin Film Analysis

Ellipsometrie ist eine optische, zerstörungsfreie Technik zur Bestimmung metrologischer Größen von dünnen Schichten, Schichtsystemen und Oberflächen. Neben den optischen Eigenschaften wie z. B. dem Brechungsindex lassen sich damit Schichtdicken im Bereich von 1 Å bis 30 µm extrem genau bestimmen. Angewandt wird die Ellipsometrie zur Schichtdickenbestimmung in Bereichen Halbleiter, Photovoltaik, Optoelektronik, optische und funktionale Beschichtungen, Oberflächenchemie und Biotechnologie.

HORIBA Scientific’s spektroskopische Ellipsometer ermöglichen äußerst präzise ellipsometrische Messungen, da keinerlei rotierende optische Bauteile verwendet werden. Unsere Ellipsometer mit Phasen- oder Flüssigkristall-Modulation wurden mit umfassender Erfahrung von Jobin Yvon in der Optik entwickelt. Die Ellipsometer werden mit der DeltaPsi2 software Plattform angesteuert, die auch eine Vielzahl von Funktionalitäten für die Datenaufnahme, Modelling, Datenbearbeitung und Ausgabe beinhaltet.

Seit über 20 Jahren versorgen wir, HORIBA Scientific, die Forschung und Entwicklung sowie den industriellen Prozessbereich mit hochwertigen spektroskopischen Ellipsometern und einem dazu passenden kompetenten Service.

Spectroscopic Ellipsometers
In-Situ, In-Line and Large Area Ellipsometers
Ellipsometry Academy
Ellipsometry Application Notes
Ellipsometry Software
Ellipsometry Zubehör

Ellipsometry for Organic Webinar