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Pour en savoir plus sur l'ellipsométrie spectroscopique, visionnez nos vidéos éducatives et découvrez certaines de ses applications grâce à nos webinaires.
L'ellipsométrie spectroscopique est une technique optique de surface, non destructive et non intrusive, largement utilisée pour la caractérisation des couches minces et des surfaces. Elle repose sur la modification de l'état de polarisation de la lumière lorsqu'elle est réfléchie obliquement par un échantillon en couche mince. Selon le type de matériau, les ellipsomètres spectroscopiques peuvent mesurer des épaisseurs allant de quelques Ångströms à plusieurs dizaines de microns. C'est également une excellente technique pour la mesure de multicouches.
L'ellipsométrie spectroscopique permet de caractériser toute une série de propriétés des couches minces, telles que leur épaisseur, leurs propriétés optiques (n, k), leur largeur de bande interdite, l'épaisseur des interfaces et la rugosité, la composition du film, l'uniformité en profondeur et en surface, etc.
Les matériaux adaptés à l'ellipsométrie spectroscopique comprennent les semi-conducteurs, les diélectriques, les polymères, les composés organiques et les métaux. L'ellipsométrie peut également être utilisée pour étudier les interfaces solide-liquide ou liquide-liquide.
Les ellipsomètres spectroscopiques HORIBA utilisent une technologie innovante pour effectuer des mesures de modulation de polarisation à haute fréquence sans aucun mouvement mécanique, offrant ainsi une caractérisation plus rapide, plus large et plus précise par rapport aux ellipsomètres conventionnels.
Characterizing advanced optical coatings requires more than thickness measurements.
Discover how HORIBA UVISEL Plus combines advanced optical modeling and automated wafer mapping to reveal optical properties, film quality, and spatial uniformity within a single workflow.
How can optical coating performance be predicted beyond the measured conditions?
Discover how HORIBA UVISEL Plus combines multi-angle spectroscopic ellipsometry and advanced optical modeling to accurately characterize mirror coatings and predict their optical behavior at non-measured incidence angles.
Ellipsometry is a well-known, yet sometimes not well understood, characterization techniques for thin films. Based on light polarization and indirect determination of parameters, ellipsometry enables obtaining thin film thickness and optical parameters, roughness, porosity or even compositional information about simple layers & complex stacks. Very useful in the fields of semiconductors, PV, optical coatings and every application using thin films, ellipsometry reached for some years now an instrumental maturity which enables to open its use to non-expert users. Come and (re)discover the basics of this powerful technique for your materials characterization needs!
Watch it nowWith their ~20 % efficiency, hybrid perovskite solar cells are the new promising candidate for next generation photovoltaics. Thanks to the wide HORIBA portfolio, different techniques can be used to gain in depth knowledge on the optoelectronic properties and mechanisms of this class of materials. In this application note we decided to use spectroscopic ellipsometry, steady-state and time-resolved fluorescence and Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy to investigate the properties of CH3NH3PbI3 thin films deposited on a spin-coated PEDOT:PSS. The impact of the exposure to air was addressed.
Read moreDiscover the webinar from Dr Arnaud Etcheberry (ILV, Versailles, France)
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Ellipsomètre spectroscopique du FUV au NIR: 190 à 2100 nm
Ellipsomètre spectroscopique pour la mesure simple de couches minces
Ellipsomètre spectroscopique puissant et économique
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