半導体・FPDウェットプロセス

微細化加工がキーワードとなっている半導体・FPD製造分野では、エッチング・洗浄工程で使用される各種薬液の濃度管理やリンス工程で使用される超純水の純度管理においてよりいっそうの精度向上が求められています。堀場アドバンスドテクノが提供する計測器は、プロセスの進化に追従した高精度測定と高い安定性を実現しており、製品の歩留まり向上に貢献しています。

フッ酸濃度モニタ HF-960H 製品写真

【新製品】

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適な、低濃度から高濃度までのフッ酸・塩酸を高精度に測定するHF/HCl濃度モニタ

低濃度HF/HCl/NH3濃度モニタ HF-960M 製品画像

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適、低濃度のフッ酸・塩酸・アンモニアを高精度に測定

TMAH濃度モニタ HE-960H-TM 製品画像

【新製品】

フォトレジスト現像液の主成分TMAH濃度を耐薬性の高いカーボンセンサと組み合わせてワイドレンジを高精度に計測

製品画像

TMAH用導電率計 HE-960TMは、半導体・液晶プロセスで用いられるフォトレジスト現像液の主成分である、TMAH (Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)溶液の導電率を高精度に測定します。

カーボンセンサ導電率計 高濃度タイプ HE-960HC 指示変換機写真

【新製品】

半導体製造やFPD製造工程の薬液・排液管理に最適な導電率計。耐薬性の高いカーボンセンサと組み合わせワイドレンジを高精度に計測。

製品画像

HE-960R-GCは、ガラスカーボンをセンサに用いた比抵抗計です。

2チャンネル比抵抗計 HE-960RW-GC

2箇所の比抵抗を同時測定・同時出力 耐薬品性センサ採用

HZ-960

溶存オゾンモニタ HZ-960はPost Cleaning、FEOL プロセスでのクリーニング処理、高濃度オゾン水によるレジスト剥離処理、など半導体Wet処理プロセスで使用されるオゾン水の溶存オゾン濃度モニタです。

HZ-960HPO-M

過酸化水素水モニタ HZ-960HPO-Mは半導体や太陽電池の洗浄プロセスにおいてパーテクル除去や不純物金属イオン除去に使用される過酸化水素水の濃度をモニタリングします。

工業用pH計 HP-480

工業用pH計 HP-480は、使用頻度の高い機能を中心に搭載したスタンダードタイプのpH計です。各種工業分野における製造工程の監視や品質検査など、幅広い用途に対応します。

微量サンプリングpHモニタ UP-100シリーズ

創業来のpH計測技術を発展させ、新たに超小型キャピラリーpH電極を開発致しました。