プラズマエミッションコントローラ RU-1000

プラズマ発光強度をセンサーで捉え独自のアルゴリズムにより自社製高速応答マスフローコントローラに適切な反応性ガス流量の指示を行い金属モードに近い成膜速度の向上と共に安定な成膜を実現します。反応性スパッタ中のプラズマ発光・スパッタ電源の電圧をモニタし、反応性ガス流量にフィードバック、コントロールすることで、成膜速度の向上、プラズマの安定化に貢献します。

プラズマ発光分析エンドポイントモニタ EV-140C

プラズマを利用した半導体薄膜プロセスにおいて、エンドポイントの検出またはプラズマのコンディション管理を行うための、発光分析方式のエンドポイントモニタです。新開発のアルゴリズム“Rupture Intensity”により微弱な信号変化から的確にエンドポイントを検出できます。微弱な発光変化を捉えるため、感度を大幅に改善。またノイズ耐性を向上させることにより、24時間稼動する製造ラインの過酷な環境化で高い安定動作を確保します。

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。「見積・資料・お問い合わせ」よりお申し込みください。尚、製品によりましては代理店をご紹介させていただくことがございます。

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株式会社堀場エステック
営業本部

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[大型連休にともなうお知らせ]

2019年4月27日(土)より2019年5月6日(月)の間にいただきましたお問い合わせにつきましては、2019年5月7日(火)より順次、対応させていただきます。ご不便をおかけいたしますが、ご理解、ご了承いただきますようお願いいたします。