2009年7月31日 - 社外の「分析計測技術」研究者の奨励賞

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2009年3月27日 -  「半導体材料表面コンタミネーションの高感度・非破壊計測」

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2008年12月15日 - 半導体分野製品を仏から日本に移管 アジア中心に製造装置メーカー・生産ライン向け本格参入 国産品プラズマ発光分析エンドポイントモニターを販売開始 半導体ドライプロセスの生産性向上に貢献

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2008年8月29日 - 300ミリ時代の生産性向上を支援 半導体クリーンルーム内露光工程の 極微量アンモニアガス濃度をリアルタイム計測

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2007年7月 5日 - ハイテク産業のお膝元で開発  シリコンバレーに『ホリバテクノロジーセンター』を開設  トップシェアに向けた“米国戦略プロジェクト”本格始動

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2005年1月11日 - 当社と株式会社堀場エステック(以下「堀場エステック」)は、本日それぞれの取締役会の決議を経て、株式交換により当社が堀場エステックを完全子会社とする株式交換契約書を締結致しましたので、下記のとおりお知らせ致します。 記 株式交換による完全子会社化の目的

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