2008年8月29日 - 300ミリ時代の生産性向上を支援 半導体クリーンルーム内露光工程の 極微量アンモニアガス濃度をリアルタイム計測

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2007年7月 5日 - ハイテク産業のお膝元で開発  シリコンバレーに『ホリバテクノロジーセンター』を開設  トップシェアに向けた“米国戦略プロジェクト”本格始動

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2005年1月11日 - 当社と株式会社堀場エステック(以下「堀場エステック」)は、本日それぞれの取締役会の決議を経て、株式交換により当社が堀場エステックを完全子会社とする株式交換契約書を締結致しましたので、下記のとおりお知らせ致します。 記 株式交換による完全子会社化の目的

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2003年6月30日 - 最先端の半導体プロセスへ新たなソリューションを提供

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2003年4月22日 - −本件は(株)エステックの発表によるもの−株式会社エステック(社長:堀場 厚、本社:京都市南区上鳥羽鉾立町11-5)は、このほどフェラン サイエンティフィック社(FERRAN SCIENTIFIC...

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2002年11月 4日 - 当社は、このほどロイヤル・フィリップス・エレクトロニクス社(本社・オランダ)の分析事業部門のうち偏光分析事業を買収、当社子会社のジョバンイボン社(本社・フランス)に本事業を委譲することを、11月1日の役員会で正式決定しました。従来から世界をリードしてきた分光偏光技術に、今回取得した事業が加わることで特に半導体市場における上位機種から普及機までフルラインナップが完成し、薄膜測定のアプリケーションで、グループ力を生かした幅広い顧客ニーズ対応が可能になります。な...

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