흡수분광법

CS-137은 반도체 공정중 wet etching에서 실시간은로 BHF농도의 모니터링을 제공합니다.

인라인 멀티 모니터링. multi-bath, single-bate 및 single wafer세척 시스템 지원.

CS-153은, 반도체【WET-ETCHING Process】의 엄격한 니즈에 대응하기 위해서 개발된 고정밀도인 약액농도 모니터입니다. 산화막과 함께 금속불순물을 제거하기 위해서 사용되는 FPM용액(HF/H2O2/H2O)의 각 성분농도를 실시간으로 측정하고, 알람에서 시약교환이나 자동보급하는 타이밍을 알립니다. 이것에 의해 FPM용액의 농도를 허용 범위에 유지하는 동시에 쓸데 없는 시약교환을 없앨 수...

반도체 wet-etching공정에서 HF/HNO3용액의 농도를 24시간 실시간 모니터링

SC-1모니터 CS-131 컴팩트하고 고속응답속도를 보이는 약액농도 모니터

고속 응답 속도와 컴팩트한 설계는 SC-2용액 농도 모니터를 웨이퍼와 배치타입 세정공정에서 가장 이상적인 선택으로 만듭니다.

CS-150은, 반도체 세정 공정에 쓰이는  SPM 농도 모니터입니다. 기존 제품과는 차별화 된 고속응답성과 장비의 소형화를 실현. registration박리나 유기물의 제거에 사용되는 SPM용액(H2SO4/H2O2/H2O)의 각 성분농도를 실시간으로 측정하고, 알람기능으로 자동보급하는 타이밍을 알려드립니다. 고속응답, 짧은 측정 주기의 실현으로 농도변화에 대하여도 충실하게 대응하고,또 컴팩트한...

초고속 응답과 컴팩트를 갖추고 있어 이상적인 TMAH/H2O2농도 모니터링이 가능합니다.