FPD공정
보일러 용수나 반도체 세정용 초순수의 실리카 농도를 자동 연속 측정하는 장치입니다. 5분간격으로 반복 측정할 수 있고, 저농도로부터 고농도까지 측정을 합니다. 화력, 원자력 발전소에 있어서 터빈 구동의 효율화나 반도체·화학산업분야에서의 품질관리에 유용합니다....
반도체 제조공정에서 웨이퍼 세정용으로 초순수가 필요합니다. 초순수는 웨이퍼 표면을 산화시킬 수 있기때문에, DO의 엄격한 관리가 필요합니다. Horiba의 SD-300 DO모니터가 그 해답입니다.
전자현미경과 조합하여 미소영역의 이물해석, 조성 분석에 최적입니다. 분석 업무전체를 이해하기 쉽도록 flow chart형식의 Navigater를 탑재. 고도인 기능을 쓰기 쉽게한 최신의 X선분석 장치의...
Serve nm order의 분석이 가능한 GDS신제품이 출시 되었습니다.
GDS(GD-OES)분석 장치는 신속하고 간단한 표면분석 깊이 방향원소분석 장치로서 도금·열처리·표면처리·코팅등의 연구 개발이나 막 품질 평가에 있어서 폭넓게 활용되어 있습니다. 고주파방식 글로우(glow) 방전을 채용하고 있기 때문에 비전기 전도성 실험자료에서도 표면분석이 가능합니다.
CS-150은, 반도체 세정 공정에 쓰이는 SPM 농도 모니터입니다. 기존 제품과는 차별화 된 고속응답성과 장비의 소형화를 실현. registration박리나 유기물의 제거에 사용되는 SPM용액(H2SO4/H2O2/H2O)의 각 성분농도를 실시간으로 측정하고, 알람기능으로 자동보급하는 타이밍을 알려드립니다. 고속응답, 짧은 측정 주기의 실현으로 농도변화에 대하여도 충실하게 대응하고,또 컴팩트한...
CS-153은, 반도체【WET-ETCHING Process】의 엄격한 니즈에 대응하기 위해서 개발된 고정밀도인 약액농도 모니터입니다. 산화막과 함께 금속불순물을 제거하기 위해서 사용되는 FPM용액(HF/H2O2/H2O)의 각 성분농도를 실시간으로 측정하고, 알람에서 시약교환이나 자동보급하는 타이밍을 알립니다. 이것에 의해 FPM용액의 농도를 허용 범위에 유지하는 동시에 쓸데 없는 시약교환을 없앨 수...
기술의 발전으로 오존수가 반도체 세척 공정과 resist separation공정에서 쓰이고 있습니다. 용존 오존농도모니터OZ-96은 저농도에서부터 고농도까지의 넓은 범위의 측정이 가능합니다....
반도체 디바이스의 고속·고밀도화에 따라, 디바이스 구조의 미세화 뿐만 아니라 재료의 이동에 의한 대응이나 생산성 향상을 목표로 해 300 mm 웨이퍼 프로세스의 도입을 하고 있습니다.이 동향에 따라, 반도체 프로세스에 이용되는“액체 재료”에서도 다양화와 대 유량화가 진행되고 있습니다. 폐사의 액체 재료 기화 시스템은 프로세스에 따라 액체 재료 기화 디바이스(Injection 방식, Baking 방식)와 액체...
세정 시스템과, 내약품성이 우수한 카본 센서 비저항계입니다. 세계최초의 카본센서 비저항계로 기존 GC-96R의 다음 모델입니다. 48/96시리즈의 기종 중 하나로 카본센서 사용으로 다양한 샘플을 측정할 수...
공업용 비저항계 HE-480R은 고정밀도 온도보상 기능을 탑재한 비저항계입니다.
반도체분야를 비롯해 전자·식품·의약품등의 분야의 제조공정에서 사용되는 초순수의 연속 모니터링에 최적입니다.
반도체 제조나 FPD제조 공정의 물약,배액관리에 사용할 수 있습니다. 4극식 카본센서를 사용해서 0~1000mS/cm레인지를 측정합니다. 또 2가지의 농도 환산 기능이 있으며 특정 약품의 농도 변화에 대한 모니터링이 가능하고 process농도계로도 사용할 수...
Based on years of experience developing market leading products for cutting edge technologies , we offer a range of mass flow controllers that meet our customers needs.
Gases are used for a wide range of applications in a...
분석 용도를 한층 더 넓히는 Compact Size. FG-100 A시리즈는, 지구 온난화 방지를 위해 삭감이 요구되는 온실 효과 가스, PFCs를 시작해 각종 반도체•FPD 프로세스 가스등이 다양한 분석을 가능하게 한 FTIR 가스 분석계입니다. 현장에서의 효율적인 가스 계측을 추구하고, 대폭적인 컴팩트화를 실현하는 것과 동시에 Single Cell Type와 Dual Cell Type의 2 종류를...
각종 프로세스의 라인 압력 제어에 최적압력 제어 설정 신호의 입력에 의해 라인 압력의 원격 조정이 가능고성능 압력 센서와 Piezo Valve를 내장UItra Clean 대응의 프로세스 라인에...
TEOS를 시작으로 한 액체 재료의 기화 시스템으로, 다수의 납입 실적을 자랑하는 LSC 시리즈에 대유량 발생을 실현시킨 신모델입니다.종래와 같이 캐리어 가스를 이용하지 않고 액체 재료의 안정 기화를 행하는 신형의 LSC-A100 시리즈는, Compact Size면서 대유량 의 기화 발생을 가능하게 한...
반도체 Device의 고속·고밀도화에 따라, 디바이스 구조의 미세화 뿐만 아니라 재료의 치환에 의한 대응이나 생산성 향상을 목표로 300 mm웨이퍼 프로세스의 도입을 하고 있습니다.이 동향에 따라, 반도체 프로세스에 이용되는“액체 재료”에 있어 다양화와 대유량화가 진행되고 있습니다. 폐사의 액체 재료 기화 시스템은 프로세스에 응한 액체 재료 기화 디바이스(인젝션 방식, 베이킹 방식)와 액체 재료 실린더로부터...
액체 재료를 베이킹 시스템(LSC 시리즈), 인젝션 시스템(MI, MV, VC시리즈)에“자동적으로”“안전하게”“헛됨 없게”공급 가능한 액체 재료의 Refill System 입니다.
안전 규격：SEMI S2.S8.S14.CE Marking을 모두 Clear 해, Operate Miss 대책으로서 위험이 수반하는 탱크 교환시의 잔액제거 Sequence의 자동화도 표준 탑재하고 있습니다.또 점검 성의 고효율화를...
고온환경의 사용이 가능한 SEC-8000/2000 시리즈는 Ultra Clean대응의 가스공급계, ppt 레벨의 초미량 가스분석에 이용 될 수 있으며 반도체, 화합물 반도체 프로세스외의 여러가지 용도에 대응한 모델입니다....
반도체제조장비의 주요 부품 Mass Flow Controller. 그 성능, 품질은 반도체 품질 자체에 영향을 주는 정도로 중요한 역할을 담당하고 있습니다.그런 엄격한 업계에 있어 고품질로 기능성을 높인 제품을 계속해서 시장에 투입하고, 세계 30%이상을 자랑하고 있는 호리바에스텍이기 때문에 종래의 개념을 깨뜨린 완전히 새로운 종류의 Mass Flow Controller 가 탄생했습니다. 이제까지 가스의...
반도체 Device의 고속·고밀도화에 따라, 디바이스 구조의 미세화 뿐만 아니라 재료의 치환에 의한 대응이나 생산성 향상을 목표로 300 mm웨이퍼 프로세스의 도입을 하고 있습니다.이 동향에 따라, 반도체 프로세스에 이용되는“액체 재료”에 있어 다양화와 대유량화가 진행되고 있습니다. 폐사의 액체 재료 기화 시스템은 프로세스에 응한 액체 재료 기화 디바이스(인젝션 방식, 베이킹 방식)와 액체 재료...
잔류 가스 분석계 MICROPOLE System
잔류 가스 분석계 MICROPOLETMSystem는, 반도체나 액정 파넬, 태양전지등을 성막 하는 진공 chamber의 전압 및 잔류하고 있는 가스의 분압을 계측할 수 있는 질량 분석계입니다.질량 검출부에는 9개의 사중극부에서 구성해, 「세계 최소 클래스의 사이즈」, 「경량화」, 「고압화」를 실현하고 있습니다.이 때문에, 설치 스페이스도 작고, 설치도...
두종류의 레이저로, SiN, SiO2, GaAs, InP, AlGaAs, GaN등이 폭넓은 막질에 대응이 가능 합니다.간섭식 실시간 막두께 모니터는 Etching/성장의 프로세스중에 막의두께 및 Etching 깊이를 고정밀도로 검출합니다. 시료 표면에 닿는 단색광은 박막의 두께나 단차에 대한 optical path lengths차이에 의해 간섭을 일으킵니다. 시간에 따라 간섭 강도의 변화를 모니터 하는...
GaN、AlGaN、SiO2、SiN등의 얇고 투명도가 높은 박막 분석에 최적입니다.간섭식 실시간 두께 모니터는 Etching/성막의 프로세스중에 막두께, Etching 깊이를 고정밀도로 검출합니다. 시료 표면에 비춰진 단색광은 박막의 두께나 단차로 인한 optical path lengths차이에 의해 간섭을 일으킵니다. 간섭 강도의 시간 변화를 모니터 하는 것으로, 그 주기에 의해 모니터 장소의...
플라스마를 이용한 반도체 공정에서 End Point의 검출 또는 플라스마의 상태를 관리하기 위한, 발광 분석 방식의 End Point 모니터입니다.신개발된 알고리즘“Rupture Intensity”에 의해 미약한 신호 변화로부터 정확하게 End Point를 검출할 수 있습니다.미약한 신호 변화를 파악할 수 있는, 높은 감도와 노이즈에 강한 내구성으로, 24시간 가동하는 제조 라인의 가혹한 환경에서도 안정된...
Low Cost로 규제를 Clear한다. 신형 TPNA-300탄생. 수질 TMS규제로 측정해야 하는 총질소, 총인의 규제로 오랜 세월의 환경분석의 경험과 높은 기술력으로 유지보수의 편리성과 가격경쟁력이 높은 자외선 산화분해법을 채용하여 TPNA-300을...
공업용 pH측정기 HP-480은 사용 빈도가 높은 기능을 중심으로 구성된 pH측정기 입니다. 각종 공업 분야에서 제조공정의 감시, 품질검사, 수산, 양식까지 폭넓은 용도로...
분광 위상 변조 Ellipsometer (SPME) UVISEL 는 어떤 기계적인 운동도 없이 편광을 변조하기 위하여 photoelastic 장치를 내장한 system입니다. 위상 변조 기술은 실험적으로 다양성과 성능면에서 중요한 이점을 제공합니다. 전통적인 ellipsometers와 비교해서 UVISEL 분광 ellipsometer는 얇은 박막 Sample과 낮은 인덱스...