마스크 이물 검사 장치 PR-PD2HR

개요

높은 수율로 효율적인 이물 검사•측정을 실현.

높은 가동률과 안정성 등, 수많은 고성능•고기능으로 많은 반도체 제조 현장에서 높게 평가되고 있는 HORIBA의 Reticle/Mask 이물 검사 장치 PD시리즈 입니다. 긴시간 안정적으로 가동되는 반송계와 고수율과 고성능 기능을 한층 더 독자적으로 개발한 신호 처리 방식에 의해 Pr-PD 시리즈중 최고 감도로 최소 0.35μm의 미세 이물 검출을 가능하게  한 것이, 이 Reticle/Mask 이물 검사 장치 PR-PD2HR입니다.


각종의 스텝퍼 케이스에 대응하며, 최대 10단까지의 다단 소타나 기능과 함께 각종 통신 기능도 충실합니다. PD시리즈만이 가능한 넓은 범용성으로 Reticle/Mask 상의 이물 검출은 물론, 유리/Paticle 각 면을 고수율로 측정해, 모든 반도체 제조 라인의 제품 비율 향상에 뛰어난 성능을 발휘합니다


기능

    * 최소 검출 감도가 0.35μm 입니다.
      레이저 산란 방식과 독자적인 신호 처리 방식을 채용하여, 최소 0.35μm의 이물질 검출이 가능합니다.Reticle/Mask폭 1.0μm이하, 라인간 1.0μm의 패턴 판별 기능에 의하여, 검출 오차를 최소한으로 억제합니다.
    * 각종 스텝퍼 케이스에 대응 할 수 있습니다.
    * 최대 10단계까지 가능한 다단 소타는, 각종 스텝퍼 케이스를 비롯하여, SMIF-POD에도 대응 할 수 있으며, 여러 메이커나 다른 사이즈의 스텝퍼 케이스와 호환이 가능합니다.
    * 조작은 간단하며,DMS로 데이터 관리도 자유자재로 할 수 있습니다.

Reticle의 크기, 검사의 형상, 검사 표면의 Area, Level 등 다채로운 검사 조건을 설정할 수 있어, 측정 조작은 매우 간단합니다.또한, 측정 결과는 이물질의 크기에 의해서 매핑 표시되어 검출 조작중에 기판상에서 발견된 이물질을 매트릭스로 실시간 표시할 수 있습니다. 검사 결과는 LAN을 통해,데이터 베이스 서버에 보존되어, DMS(데이터 관리 소프트)에 의해서 데이터 관리, 각종 리포트 출력, 사용자 조건의 설정 등 다채로운 관리가 가능합니다.


제조원 HORIBA

사양

Principle

Polarized laser scattering method

Inspection object

Reticle/mask with or without pellicle

Detector

Photomultiplier

Light source

Argon laser 488 nm, 10 mW

Reticle/mask size

5" x 5", 6" x 6", 2.3 to 6.3 mm thickness (maximum 1/4")
Option: 3" x 5", 7" x 7", Ø7-1/4 with holder, 230 mm

Pellicle

Thickness: 0.865 to 2.85 µm (±0.2 µm)

Frame height:  
Glass surface (upper): 2.5 to 4.0 mm
Pattern surface (lower): 2.5 to 6.3 mm
Frame size: Differs depend on reticle case.

Detectable particle size

Pattern surface: 0.35 µm or larger
Glass surface: 5 µm or larger
Pellicle surface: 10 µm or larger
(PSL equivalent diameter)

Detectability

Standard mode: More than 90% of 0.35 µm particles.
5-inspection integrated mode: More than 93% of 0.35 µm particles.

Particle level setting

Pattern surface: 0.25 to 10 (3 steps)
Glass surface: 1.5 to 30.0 (3 steps)
Pellicle surface: 4 to 99 (3 steps)

Inspection area

Shape: Square, rectangle, circle

Area:
  5" x 5": 10 x 10 to 105 x 110 mm or  Ø10 to Ø105 mm
  6" x 6": 10 x 10 to 127 x 139 mm or  Ø10 to Ø127 mm
  7" x 7": 10 x 10 to 160 x 160 mm or  Ø10 to Ø160 mm (Option)
Actual inspection area differs with reticle support stage and pellicle size. (7", 230 mm Option)

Inspection result

LCD display:
Map: Results for the entire inspection area, and results of magnifying the main map with X-Y coordinates for particle positions.

Particle observation

LCD screen observed from top and bottom side.
Magnification: 220 x, 440 x, 1100 x (bottom side) 440 x fixed (top side)
Illumination: Bright/dark-field illumination, combined with top light.

Standard function

Automatic review (skip) function, Coordinate origin setting/rotation compensation function, Inspection center function, Map display insert/delete function, Bar code ready (Hard ware option)

Optional functions

Pellicle only inspection, Mask blank inspection, Inspection of additional substrate size, 2 way data communication (GEM or SECS2)

Dimensions

1710 (W) x 1540 (H) x 1400* (D) mm
67.3 (W) x 60.6 (H) x 55.1* (D) in.
*Maximum width including a status lamp and a duct.

Weight

Approx. 1000kg/2222 lbs

 

UTILITIES

Installation site

Clean bench: Class 10 or better
Temperature: 23±1°C

Power

200/210/220/240 V AC ±10 V (Customer specified), single phase 4k VA, 50/60 Hz

Vacuum source

Pressure difference: 8.0 x 104 Pa or more 50 L/min