В наши дни полупроводники являются ключевыми компонентами ряда быстро развивающихся отраслей промышенности. HORIBA тщательно отслеживает все тенденции в этой сфере. Компания HORIBA, имеющая специалистов во всех отраслях, занимается разработкой собственных инженерных проектов в широком спектре областей, в том числе в сфере оценки и анализа, чистоты ультрачистой воды, состава жидкостей и газов, а также, в более широком смысле, в отрасли охраны окружающей среды и безопасности. С учетом общих целей процесса мы разработали линию аналитического оборудования и систем контроля и измерения жидкости, адаптированных к каждому этапу процесса производства полупроводников в соответствии со строгими требованиями к контролю качества. На всех этапах процесса -- от оценки материалов до окончательной проверки -- продукция HORIBA позволяет обеспечить высокую эффективность процесса производства передовых электронных устройств.

Основная сфера применения

Бесконтактное измерение температуры для:

  • токоприемников в вакуумных камерах
  • жидкокристаллических подложек, используемых в производстве плоскоэкранных дисплеев
  • кварцевых подложек в процессе доочистки.

Find out more

Semiconductor Manufactuing Process

Сопутствующая продукция

Различные этапы процесса производства полупроводников перечислены ниже. Выберите этап, чтобы увидеть список продукции, имеющейся в ассортименте на этом этапе.

Процесс литографии

Blanks Mask Particle Detection System PR-PD2BLI

High speed and high accuracy inspection for blanks mask

PR-PD2HR Particle detection system

Achieves dramatic cost reductions in advanced mask inspections

HORIBA's PR-PD2 Particle Detection System

High sensitive particle detection down to 0.35µm.

Compact Reticle/Mask Particle Detection System PR-PD3

Low running costs thanks to a compact design, plus remarkable versatility

PR-PD5 Particle detection system

For use in combination with Manufacturing Devices. Low-cost reticle/mask particle inspection with enhanced versatility and compactness.

Reticle/Mask Particle Remover RP-1

Automatically removes particles by blow and vacuum suction

Анализ деионизированной воды

2-channel Carbon Sensor Resistivity Meter HE-960RW-GC(W)

Resistivity meter having the 2-channel carbon sensor. Measurement range: 0 - 100.0 MΩ・cm

Highly Sensitive Silica Monitor SLIA-300

Measure the ultra-low density of silica at the finest sensitivity of 0.01 µg/L (0.01 ppb).

Анализ материалов (анализ твердых частиц и анализ дефектов)

GD-Profiler

The GD-Profiler 2™ provides fast, simultaneous analysis of all elements of interest including the gases nitrogen, oxygen, hydrogen and chlorine. It is an ideal tool for thin film characterization and process studies.

LabRAM HR Evolution Raman Microscope

High spectral resolution analytical Raman microscope for ultimate performance and flexibility; includes UV Raman configuration, full automation and wide range of accessories.

XGT-7200

Single point analysis and automated hyperspectral imaging.

Dual vacuum modes.

Spot sizes from 1.2 mm to 10 µm.

Переадресация на страницу с описанием приборов для анализа концентрации химических веществ

Контроль жидкостей

Анализатор концентрации газов

Vapor Concentration Monitor IR-300

In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.

Приборы для анализа технологического газа

Compact Process Gas Monitor MICROPOLE System

Compact process gas monitor using quadrupole mass spectrometer. Monitors trace gases, responds quickly to process shift . Easy to install and maintain.

Анализ/контроль тонкопленочных структур

New Uvisel 2

The ultimate solution to every challenge in thin film measurement

Процесс химико-механической полировки

LA-960

The LA-960 uses Mie Scattering (laser diffraction) to measure particle size of suspensions or dry powders. The speed and ease-of-use of this technique makes it the popular choice for most applications.

Бесконтактное измерение температуры