Monitoramento da contaminação molecular por amônia no ar durante a fabricação de semicondutores.

- Monitor de NH₃-

Contaminantes moleculares presentes no ar (AMCs) causam problemas de qualidade em produtos na produção moderna de semicondutores, mesmo em concentrações extremamente baixas, da ordem de ppb. Os AMCs tornaram-se um problema com a introdução de resinas fotopolimerizáveis na década de 1990. Um defeito ocorria quando os ácidos fotopolimerizáveis presentes na resina eram neutralizados pela amônia (CH₃) presente no ar da sala limpa. Essa interação é relevante para defeitos em dispositivos, pois deteriora a largura e a estrutura das linhas. Portanto, a medição da contaminação molecular por amônia presente no ar em salas limpas tornou-se comum, e a cromatografia iônica tem sido utilizada há muito tempo.

A contaminação por amônia em salas limpas pode ter diversas origens, às vezes inesperadas: entrada de ar externo, evaporação de partículas provenientes da equipe ou vazamento de equipamentos. Ocasionalmente, ocorrem eventos aleatórios que levam ao aumento da concentração de amônia e resultam em opacidade na superfície óptica de retículos e espelhos. No entanto, identificar e eliminar rapidamente a fonte de contaminação por amônia antes que ela afete a produtividade é problemático, pois a origem da contaminação pode ser qualquer uma.

A análise manual de AMCs não oferece alta resolução espacial e pode atrasar a detecção de contaminação, resultando na disseminação da contaminação pela sala limpa e levando à deterioração do rendimento.

Para minimizar a perda de rendimento causada pela contaminação molecular por amônia no ar, é de extrema importância obter dados analíticos com alta resolução espacial para rápida determinação da fonte de contaminação e implementação imediata de medidas corretivas.

Voz dos Gerentes do Departamento de Qualidade de Instalações de Salas Limpas

É necessário aumentar a resolução espacial da análise, mas o aumento da amostragem e análise manual é dispendioso e acarreta grandes lacunas de tempo.
Os requisitos para o projeto de sistemas analíticos variam de fábrica para fábrica.

Solução da HORIBA

Características do monitor de CH₃

Seletor de linhas com múltiplos pontos de amostragem para alta resolução espacial.
Personalizado de acordo com as necessidades do cliente para 4, 8, 16 ou mais pontos de amostragem.
Faixa de medição: máx. 0-1000 ppb, mín. 0-100 ppb, LDL 1 ppb.

Eficiência em termos de tempo e custo
Medição automatizada, sem necessidade de habilidades especiais.
Ajuda a reduzir custos de gestão, tempo e mão de obra.

Transportável
O sistema portátil montado em um carrinho permite a utilização de um único sistema em diferentes salas limpas do edifício.
Permite obter dados de monitoramento de manutenção preventiva de diferentes instalações da fábrica: armazém, sala limpa, etc.

A solução da HORIBA para salas limpas de semicondutores.

Na sala limpa, onde a análise de AMC é realizada manualmente, a amostragem apenas no ponto [5] da Figura 1 pode causar atraso na detecção da contaminação e disseminação de AMC por toda a sala limpa. O sistema de medição multiponto HORIBA composto pelo Seletor de Linha e pelo Sistema de Monitoramento de AMC com múltiplos pontos de amostragem [1] [2] [3] [4] [5] na Figura 1, permite aumentar a resolução espacial da análise, o que leva à detecção precoce da fonte de AMC e à rápida implementação de contramedidas. Tal sistema de monitoramento multiponto de AMC pode contribuir para a melhoria do rendimento da produção, da qualidade e da confiabilidade dos dispositivos.

Monitoramento AMC multiponto