2チャンネル比抵抗計 HE-960RW-GC

2箇所の比抵抗を同時測定・同時出力 耐薬品性センサ採用

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HE-960R-GCは、ガラスカーボンをセンサに用いた比抵抗計です。

Compact Reticle/Mask Particle Detection System PR-PD3

高い稼働率と長期にわたる安定性で、多くの半導体製造現場から高く評価されているHORIBAの異物検査装置PDシリーズ。そのシンプルで長期安定稼働する搬送系、高スループット、信頼の光学系、さらに誤検出対策機能など高性能の数々を継承し、コンパクトにパッケージングしたのが、レティクル/マスク異物検査装置PR-PD3です。従来機(PR-PD2)と比べて約1/2という小型化を実現するとともに、低ランニングコストを追求。そして0.5μmの検出感度による広い汎用性。レティ...

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生産終了いたしました。後継機種は溶存オゾンモニタHZ-960をご参照ください。

EMGA-920

鉄鋼、新素材、触媒など世界最先端技術の技術開発や品質管理に欠かせない高精度でスピーディな元素分析を実現するツール。ユーザの要望を最大限に反映させた新世代モデル。

GA-370 微量ガス分析計

水素ステーションや空気分離装置、半導体製造など産業ガス製造設備における、微量不純物(CO, CO2, CH4 シロキサン)をppbレベルでモニタリングし品質管理に貢献する高精度なガス分析計です。

微量(ppb)2成分同時不純物管理ダブルビーム
原理:NDIR

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2

rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

HEラマンプロセスシステム

HE(High Efficiency)ラマンプロセスシステムはプロセスコントロールのためにハイスループットで安定したシステムとして開発されました。内部の光学部品が全て固定されており外観も頑丈でコンパクトに設計され、極力メンテナンスを少なくし操作も簡単にすることでプロセス現場からの要望に完全に応えています。

半導体製造プロセス向超純水管理用

最高感度0.01μg/L(0.01ppb)で、極低濃度のシリカを測りたいという要求に確実にお答えします

IG-331 Gloss Checkers

簡単操作で光沢を測定し数値化し、幅広い分野での品質管理や空間の美化維持に活用できる光沢計です。

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。「見積・資料・お問い合わせ」よりお申し込みください。

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