レティクル/マスク異物検査装置 PR-PD2

• パターン上にて0.35μmの異物検出感度と90%の検出率を誇ります。(積算モード使用により感度は93%となります。)
• レティクル/マスク上の異物検出はもちろん、パターン/ガラス/ペリクル各面を高スループットで測定します。
• 上下面異物観察機能付き(観察倍率多段切換)です。
• 各種ステッパーケースに対応可能で、オプションで最大10段までの多段ケースも用意しています。
• 多彩な検査条件設定機能により操作も簡単です。
• データ管理機能を内蔵し、必要に応じた形式でのレポート出力が可能です。

使用環境

パターン上の最小0.35μm微細異物を検出します。
レティクル/マスク線幅1.0μm、ライン間1.0μmのパターン判別機能により、検出誤差を最小限に抑えます。

用途

■レティクル/マスク製造工程
マスク/レティクルブランク上の異物検査・測定
EBにて描画・洗浄後のパターン/ガラス面の異物検査・測定
ペリクル貼付け後のパターン/ガラス/ペリクル各面の異物検査・測定
貼付け前のペリクル単体の異物検査・測定(オプション機能)
■露光工程
レティクル/マスクの受入検査
露光前のレティクル/マスクのルーチン異物検査・測定
レティクル/マスクの定期的な異物検査・測定

特長

• 最小検出感度0.35μm。
  レーザ散乱方式と独自の信号処理方式の採用により、最小0.35μmの異物が検出可能。レティクル/マスク線幅1.0μm、ライン間1.0μmのパターン判別機能により、検出誤差を最小限に抑えます。
• 各種ステッパーケースに対応する多段ソータ。
  最大10段まで可能な多段ソータは、各種ステッパーケースをはじめSMIF-PODに対応。複数のメーカーや異なるサイズのステッパーケースが組み合わせが可能です。
• 操作は簡単。DMSでデータ管理も自在。
  レティクルの大きさ、検査の形状、検査表面のエリア、レベルなど多彩な検査条件が設定でき、測定操作はいたって簡単。また、測定結果は異物の大きさによってマッピング表示され、検出操作中に基板上で発見された異物をマトリックスでリアルタイムに表示できます。検査結果はデータベースサーバに保存され、DMS(データ管理ソフト)によってデータ管理、各種レポート出力、使用者条件の設定など多彩な管理が可能。LAN接続によるデータの双方向通信も行えます。

▲Map画面
Map画面では検出した異物のMapを参照したり、異物観察したりできます。結果一覧画面から、Mapボタンを押すと、異物Mapも表示されます。また、目的の異物を指定して、Map横に顕微鏡画面を表示することも可能です。

▲検査結果1
検査結果を報告書に出力できます。Referenceとして登録しているデータの異物アドレスと異なるアドレス、検出個数判定、増加個数判定結果も出力可能です。

▲検査履歴
過去の検査結果を時系列で見ることができます。特定のレティクルの測定結果から異物の検出総数、検出割合などの経歴をグラフ表示することも可能です。

▲検査結果2
検査結果をMapに出力できます。Mapを拡大表示すると、拡大した状態で出力されるので、特定の箇所を部分的に詳しく出力するのに便利です。

■通信接続

• 上下面異物観察機能を装備。
  レティクル/マスク面の上側に1個、下側に4個の顕微鏡対物レンズを搭載。上面は440倍、下面の検査面は220倍、440倍、880倍、2200倍の観察倍率が切換え可能です。これによって、上下面の異物を直接観察することができます。

• ハイレベルな誤検出防止機能。
  独自の信号処理方式採用により、1.0μm/1.0μmL&Sレベルまで誤検出防止を可能にしています。ローパスフィルタを使用したパターン弁別機能により、疑似検出を最小限に抑え、密集したパターンの誤検出対策も効果的に行うことができます。

測定原理

本装置ではレーザー散乱光方式を異物の検出原理としています。レーザー光は異物に照射されると散乱されますが、その散乱強度を測定することにより異物を検出します。ガルバノミラーにより検査面全体にわたってレーザー光を走査し、散乱光の強度を測定します。さらに異物とパターンとでは信号に差があることに着目し、独自に開発したローパスフィルタにより弁別効率をアップ。また安定稼働のため、アルゴンレーザ(488nm)を採用しています。

ペリクル貼付け後の定期検査も可能。

ペリクル透過率測定機能により、適正な感度での異物検査が可能です。光路を切り換えることで、ペリクル枠の内側に影の部分を作らずに測定できます。

測定データ例

▲検査条件設定画面

▲検査画面

▲測定結果画面

▲測定結果画面

サンプル測定

サンプル送付による評価デモも可能です。

技術資料

300mm 世代とシステムLSI 製造に対応し、歩留まり向上に大きな威力を発揮するレティクル/マスク異物検査装置

本装置は、露光用レティクルやマスク上の異物を高感度に検出し、その位置を高精度に特定し画像に表示します。本装置は、アルゴンによるレーザ散乱方式を採用することにより、最小検出0.35μmの異物を90%以上の検出率で測定できます。また、各種のマスクケースに対応する多段ソータや各種通信機能を充実させるなど、あらゆる半導体製造ラインに即応できる構成となっています。

■0.35μmの異物を検出
レーザ散乱方式とArレーザの採用により最小0.35μmの異物が検出可能。
■高い安定性
一定周期でレファレンス測定により光源の変動影響を補償し、長時間にわたり安定した測定が可能。
■高い弁別率
ローパスフィルタにより異物/パターンの弁別率が大幅に向上し、位相シフトマスク(ハーフトーンマスク)、OPC マスクなども検査可能。
■多段ソータ対応
各種のマスクケースに対応できる構造で、最大10段の多段ソータ対応が可能。
■通信機能の充実
通信系のOSにはMicrosoftWindowsServerを採用し操作性を高めるとともに、ホスト通信ではSECS、GEMに対応しています。
■その場観察
顕微鏡により異物を光学的観察し、異物の性状をその場観察することができる。

ローパスフィルタによる弁別原理

ローパスフィルタの効果
＜テストパターン＞

＜出力信号＞

価格

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。
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