半導体・FPD製造

冷却測定方式の流量センサを搭載した高精度液体デジタルマスフローコントローラ＆メータ。マイクロリッターからの微少流量制御が可能。

ノンキャリアタイプのコンパクト液体材料気化システム。TEOS気化システムのベストセラーモデル。

生産終了いたしました。後継機種は溶存オゾンモニタHZ-960をご参照ください。

高分解能なステッピングモーターと独自構造のバタフライバルブにより高速応答・高分解能制御を実現した排気圧コントローラ

実現！　インライン・マルチモニタリング。

マルチバス、ワンバス、枚葉各方式の洗浄装置に対応。

CS-153は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。酸化膜とともに金属不純物を除去するために使われるFPM溶液(HF/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりFPM溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

rf-GD-OES（GDS）分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

HE（High Efficiency）ラマンプロセスシステムはプロセスコントロールのためにハイスループットで安定したシステムとして開発されました。内部の光学部品が全て固定されており外観も頑丈でコンパクトに設計され、極力メンテナンスを少なくし操作も簡単にすることでプロセス現場からの要望に完全に応えています。

CS-153Nは、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。シリコン酸化膜のエッチングのために使われるHNO3/HF溶液(HNO3/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりHNO3/HF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

体積管と石鹸膜ディテクタを組み合せ、ワンタッチ操作でガスの流量計測が可能。体積管内を移動する石鹸膜の移動時間を測定、大気圧・気温の値から自動補正し、ガスの流量を算出します。