2チャンネル比抵抗計 HE-960RW-GC

2箇所の比抵抗を同時測定・同時出力 耐薬品性センサ採用

BHF monitor image

CS-137は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。エッチング工程においてシリコン酸化膜のエッチング及びウエハ表面のパーティクル除去のために使われるBHF溶液(NH4F/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりBHF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

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HE-960R-GCは、ガラスカーボンをセンサに用いた比抵抗計です。

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生産終了いたしました。後継機種は溶存オゾンモニタHZ-960をご参照ください。

光ファイバ式薬液濃度モニタ CS-100F1シリーズ

実現! インライン・マルチモニタリング。

マルチバス、ワンバス、枚葉各方式の洗浄装置に対応。

FPM Monitor / CS-153

CS-153は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。酸化膜とともに金属不純物を除去するために使われるFPM溶液(HF/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりFPM溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

HEラマンプロセスシステム

HE(High Efficiency)ラマンプロセスシステムはプロセスコントロールのためにハイスループットで安定したシステムとして開発されました。内部の光学部品が全て固定されており外観も頑丈でコンパクトに設計され、極力メンテナンスを少なくし操作も簡単にすることでプロセス現場からの要望に完全に応えています。

CS-153N HF/HNO3 Monitor

CS-153Nは、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。シリコン酸化膜のエッチングのために使われるHNO3/HF溶液(HNO3/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりHNO3/HF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

Hydrofluoric Acid Monitor CM-200A/210A

半導体特製造プロセスの厳しいニーズに対応するために開発された高精度なフッ酸濃度モニタです。電磁誘導方式導電率計の採用により、フッ酸濃度を測定し、リアルタイムに表示します。しかも、低濃度域においても高い再現性精度を実現。エッチングを含むウエハの洗浄工程におけるフッ酸濃度の管理をはじめ、フッ酸が利用されている様々な産業分野に幅広く対応します。

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生産終了いたしました。後継機種は溶存オゾンモニタHZ-960をご参照ください。

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