レティクル/マスク異物検査装置 PR-PD5

優れた機能で効果的な異物検査をサポート

• 低ランニングコストを実現。
  レーザ光には抜群の経済性を誇るHe-Neレーザを採用するとともに、シンプルなステージ搬送系を採用するなど、維持費・ランニングコストの大幅な低減を実現しました。
• 効果的な誤検出対策機能。
  粗いパターン用の偏光差動と微細なパターン用のローパス差の両機能を搭載。この二方法の併用により、OPCなど両方の特性を持つパターンの誤検出対策を効果的に行うことができます。
• 広い汎用性で多彩な用途。
  パターン上0.5μmの異物検出感度により、レティクル/マスク上の異物検出はもちろん、ガラス/ペリクル各面を高スループットで測定します。
  
  • レティクル/マスク製造工程
    マスク/レティクルブランク上の異物測定
    EBにて描画・洗浄後のパターン/ガラス面の異物測
    ペリクル貼付け後のパターン/ガラス/ペリクル各面の異物測定
    貼付け前のペリクル単体の異物測定(オプション機能)
  • 露光工程
    レティクル/マスクの受入検査
    露光前のレティクル/マスクのルーチン異物測定
    レティクル/マスクの定期的な異物測定

• 優れた機能で効果的な異物検査をサポート。
  
  • 自動座標補正機能を搭載。
    3つの透過光電センサを使用してレティクル端面を検出し、フォーク上でのレティクルの位置ずれを自動補正。常にレティクル中心(0,0)、レティクル端面に沿った座標系で結果を表示します。
  • 多機能先端ソフトを採用。
    パターンマスキング機能、異物マーキング機能、データベース管理機能を持つHORIBA独自の多機能ソフトを採用しています。
  • データ管理機能により、多彩なレポートの出力が可能。

測定原理

本装置ではレーザ散乱光方式を異物の検出原理としています。レーザ光は異物に照射されると散乱されますが、その散乱強度を測定することにより異物を検出します。ガルバノミラーにより検査面全体にわたってレーザ光を走査し、散乱光の強度を測定します。レーザ光はレティクルやマスク上のパターンによっても散乱されますが、異物とパターンとでは散乱光の偏光特性が異なることから、光学系に偏光素子を挿入して両者を弁別します。さらに、異物とパターンとでは信号に差があることに着目し、独自に開発したローパスフィルタにより弁別効率を向上。また、安定稼動のため、実績のあるHe-Neレーザ(633nm)を採用。これらの技術改良により、先端マスクから汎用マスクまで幅広い対応が可能となりました。

価格

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。
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