Application
Sub23nm固体粒子数測定装置 MEXA-2000SPCS
概要
UNECE/GRPE/PMPを中心に、従来の規制では計測対象外であった粒子径23 nm未満(以下Sub 23 nm)の粒子数規制が検討されています。
PMPのドラフト仕様に対応*
フルトンネル、マイクロトンネル、ダイレクト計測すべての用途にお使いいただけます。
お客様の将来規制対応への開発をサポートします。
*詳しくはお問い合わせください。
Sub 23 nm粒子数計測のポイント
①粒径10 nmから2.5 μmまでの粒子数をリアルタイム計測
検出可能な粒子径の下限を拡張
②揮発性粒子の再凝縮防止と測定誤差低減
Hot Catalytic Stripperの酸化反応による除去効率アップ
製造会社: HORIBA
仕様
型式 | MEXA-2010SPCS | MEXA-2110SPCS | MEXA-2210SPCS | MEXA-2310SPCS | |
---|---|---|---|---|---|
用途※1 | フルトンネル | フルトンネル/ダイレクト計測 | フルトンネル/マイクロトンネル | フルトンネル/マイクロトンネル/ | |
測定原理 | レーザ散乱式凝縮粒子カウンティング(CPC) | ||||
測定成分・レンジ | 固体粒子状物質の粒子数 0-50000 個/cm3(装置内希釈後)※2 | ||||
CPC計数効率 | 65±15 % @ 10 nm, > 90 % @ 15 nm | ||||
サンプリング温度 | 52℃以下(希釈サンプリング) | 最高350℃(ダイレクトサンプリング)※3 | 52℃以下(希釈サンプリング) | 最高350℃(ダイレクトサンプリング)※3 | |
希釈サンプル温度 | 1次希釈器 (PND1): 191℃ ± 10℃ | サイクロン: 47℃ ± 5℃ | 1次希釈器 (PND1): 191℃ ± 10℃ | サイクロン: 47℃ ± 5℃ | |
ダイリューションファクタ設定範囲 | 1次希釈器(PND1):10~200※2 | DSU内希釈器:10 | 1次希釈器(PND1):10~200※2 | DSU内希釈器:10 | |
リダクションファクタ | 0.95 < fr (15 nm) / fr (100 nm) < 2.0 | ||||
揮発性粒子除去部 | Hot Catalytic Stripper (350 ℃) | ||||
揮発性粒子除去効率 | >99.9% (メディアン径>50 nmかつ質量濃度>1 mg/m3のC40粒子にて) | ||||
希釈精度 | 設定値の±10 %※4 | ||||
設置環境 | 単体使用時(標準):温度 5℃~30℃、相対湿度80 %以下 | ||||
電源 | AC 200/220/230/240 V (±10 %、ただし250 V以下)、50/60 Hz (±1.0 Hz)、単相(注文時に指定のこと) | ||||
電源容量 | 本体:最大2.5 kVA | 本体:最大2.7 kVA | 本体:最大2.6 kVA | 本体:最大2.8 kVA | |
外形寸法・質量 | 基本ユニット※5 | 434(W)× 731(D)×637(H)mm | 434(W)× 845(D)×637(H)mm | 434(W)× 910(D)×637(H)mm | 434(W)× 910(D)×637(H)mm |
オプションユニット | CYU : 290(W)× 146(D)× 236(H) mm※6約 4 kg |
※1 ダイレクト計測・マイクロトンネルとの併用は、開発用途に限ります。
※2 希釈後の粒子数濃度が測定レンジ内になるように希釈比を設定してください。
※3 本装置のサンプル温度条件は、「DSU本体が350℃以下となる範囲」です。詳細については、弊社までお問い合わせください。
※4 スパンガスを用いた希釈比チェックにおける希釈精度です。
※5 トランスファ管・制御部・オプションユニットは別です。
※6 寸法は顧客仕様により異なります。