電気・電子・機械装置

Integrated management with an in-situ real time monitor "DIGI Series" for next-generation thin-film processes

高精度圧力センサ、高分解能・高速応答のピエゾバルブを搭載したデジタルプレッシャレギュレータ。デジタル/アナログ通信モデル、デバイスネット通信モデルをラインナップ。

鉄鋼、新素材、触媒など世界最先端技術の技術開発や品質管理に欠かせない高精度でスピーディな元素分析を実現するツール。ユーザの要望を最大限に反映させた新世代モデル。

脱硝装置出口の残留アンモニア（NH₃）濃度を連続測定する煙道排ガス分析計です。脱硝触媒の劣化監視、NH₃の注入量制御、硫安結晶物の生成防止など、設備の監視・コントロールに活用できます。

原理：

実現！　インライン・マルチモニタリング。

マルチバス、ワンバス、枚葉各方式の洗浄装置に対応。

CS-153は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。酸化膜とともに金属不純物を除去するために使われるFPM溶液(HF/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりFPM溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

水素ステーションや空気分離装置、半導体製造など産業ガス製造設備における、微量不純物(CO, CO₂, CH₄ シロキサン)をppbレベルでモニタリングし品質管理に貢献する高精度なガス分析計です。

原理：

rf-GD-OES（GDS）分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

低迷光アプリケーションおよび単色光源に最適なダブルモノクロメータ

CS-153Nは、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。シリコン酸化膜のエッチングのために使われるHNO3/HF溶液(HNO3/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりHNO3/HF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。