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Appearance of DigiCPMJ

Integrated management with an in-situ real time monitor "DIGI Series" for next-generation thin-film processes

デジタルオートプレッシャレギュレータ UR-Z700 Series

高精度圧力センサ、高分解能・高速応答のピエゾバルブを搭載したデジタルプレッシャレギュレータ。デジタル/アナログ通信モデル、デバイスネット通信モデルをラインナップ。

EMGA-920

鉄鋼、新素材、触媒など世界最先端技術の技術開発や品質管理に欠かせない高精度でスピーディな元素分析を実現するツール。ユーザの要望を最大限に反映させた新世代モデル。

ENDA-C9000

操作性・視認性向上、安定稼働のためのサンプリング技術強化、高度なメンテナンス性を追求し...

光ファイバ式薬液濃度モニタ CS-100F1シリーズ

実現! インライン・マルチモニタリング。

マルチバス、ワンバス、枚葉各方式の洗浄装置に対応。

FPM Monitor / CS-153

CS-153は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。酸化膜とともに金属不純物を除去するために使われるFPM溶液(HF/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりFPM溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

GA-370 微量ガス分析計

GA-370は水素製造プラント、空気分離プラント、半導体製造など、ガス製造設備の品質管理として、微量不純物(CO, CO2, CH4)を超高感度、高精度に常時連続モニタリングが可能です。

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2

rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

Gemini 180 Monochromator

低迷光アプリケーションおよび単色光源に最適なダブルモノクロメータ

CS-153N HF/HNO3 Monitor

CS-153Nは、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。シリコン酸化膜のエッチングのために使われるHNO3/HF溶液(HNO3/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりHNO3/HF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

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