煙道排ガス分析装置 ENDA-5000シリーズ

煙道排ガス中の最大5成分(NOx/SO2/CO/CO2/O2)を1台で同時測定が可能な装置です。脱硝装置入口の窒素酸化物(NOx)監視や、脱硝装置の出入口の二酸化硫黄(SO2), 酸素(O2)監視など発電所などに導入されている排ガス処理のプロセスコントロール用装置として使用できます。

最大5成分検定対応多点測定クロスフロー
原理:NDIR磁気圧力式

光ファイバ式薬液濃度モニタ CS-100F1シリーズ

実現! インライン・マルチモニタリング。

マルチバス、ワンバス、枚葉各方式の洗浄装置に対応。

FPM Monitor / CS-153

CS-153は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。酸化膜とともに金属不純物を除去するために使われるFPM溶液(HF/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりFPM溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

HEラマンプロセスシステム

HE(High Efficiency)ラマンプロセスシステムはプロセスコントロールのためにハイスループットで安定したシステムとして開発されました。内部の光学部品が全て固定されており外観も頑丈でコンパクトに設計され、極力メンテナンスを少なくし操作も簡単にすることでプロセス現場からの要望に完全に応えています。

CS-153N HF/HNO3 Monitor

CS-153Nは、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。シリコン酸化膜のエッチングのために使われるHNO3/HF溶液(HNO3/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりHNO3/HF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。

Hydrofluoric Acid Monitor CM-200A/210A

半導体特製造プロセスの厳しいニーズに対応するために開発された高精度なフッ酸濃度モニタです。電磁誘導方式導電率計の採用により、フッ酸濃度を測定し、リアルタイムに表示します。しかも、低濃度域においても高い再現性精度を実現。エッチングを含むウエハの洗浄工程におけるフッ酸濃度の管理をはじめ、フッ酸が利用されている様々な産業分野に幅広く対応します。

IG-331 Gloss Checkers

簡単操作で光沢を測定し数値化し、幅広い分野での品質管理や空間の美化維持に活用できる光沢計です。

高光沢グロスチェッカ IG-410

現場作業を容易にする、表示部と分離した測定部を被検体にあてるだけで計測できるハンディタイプの光沢計です。

工業用pH計 HP-480

使用頻度の高い機能を中心に搭載したスタンダードタイプのpH計です。 工業排水の放流水監視から、各種工業分野における製造工程の監視、品質検査、水産、養殖まで幅広い用途に対応します。

磁気圧力式酸素分析計 MPA-5000

共存ガスの影響を受けない高精度で安定性にすぐれた、磁気圧力方式(圧力検出形)を使用した酸素ガス分析計です。

高精度医療O2
原理:磁気圧力式

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