印刷業

現場作業を容易にする、表示部と分離した測定部を被検体にあてるだけで計測できるハンディタイプの光沢計です。

使用頻度の高い機能を中心に搭載したスタンダードタイプのpH計です。 工業排水の放流水監視から、各種工業分野における製造工程の監視、品質検査、水産、養殖まで幅広い用途に対応します。

CS-131は、半導体製造における洗浄工程のSC-1溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に使われるSC-1溶液(NH3/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、SC-1溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広範囲なサンプル温度範囲に対応しました。

CS-152は、半導体製造における洗浄工程のSC-2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。金属イオン除去に使われるSC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。

CS-150は、半導体製造における洗浄工程のSPM溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。レジスト剥離や有機物の除去に使われるSPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。高速応答、短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。

CS-139Eは、半導体製造における洗浄工程のTMAH/H2O2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に代替SC-1として使用されるTMAH/H2O2溶液(TMAH/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、TMAH/H2O2溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広...

In-Line Spectroscopic Ellipsometer for Web Coater and Roll to Roll Systems

10μmの革命！真空チャンバ（デュアル・バキューム・チャンバ）装備によりサンプル形態・分析目的に合わせ、分析環境を切替、軽元素の高感度分析が可能！高純度Si半導体検出器搭載。