半導体・FPDウェットプロセス

低濃度HF/HCl/NH3濃度モニタ <HF-960M>

概要

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適
低濃度のフッ酸・塩酸・アンモニアを高精度に測定

半導体洗浄プロセスではデバイスの進化・微細化に伴い、RCA洗浄の薬液も低濃度でのコントロールが要求されています。
HF-960Mは耐食性に優れたセンサを採用し、低濃度のフッ酸、塩酸、アンモニアをそれぞれ高速に測定しますので、ワンバス洗浄や枚葉洗浄にも最適な製品です。

特長

  • HF濃度、HCl濃度、NH3濃度、導電率、温度の5種類を測定
  • アナログ出力を濃度測定範囲で任意設定可能
  • 接点出力点数7点装備
  • 3系統の伝送出力を搭載

製造会社: HORIBA Advanced Techno

仕様

製品名

低濃度HF/HCl/NH3濃度モニタ

型名

HF-960M

周囲温度

−5〜45℃

相対湿度

20〜85%(結露しないこと)

保存温度

−25〜65℃

電源

定格電圧 24V DC 10W(max)

外形寸法

96(W)×96(H)×115(D) ケース奥行:約105mm(パネルマウント時)

質量

約550g

適合規格

CEマーキング、FCC Part15

外形寸法図・他(単位:mm)

Dimensions of HF-960M

関連製品

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【新製品】

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適な、低濃度から高濃度までのフッ酸・塩酸を高精度に測定するHF/HCl濃度モニタ