Die HORIBA Europe GmbH gibt die Markteinführung des CS‑900F bekannt, eines Monitors zur Überwachung chemischer Konzentrationen, der speziell für Nassprozesschemikalien in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde, einschließlich Anwendungen in der Reinigung und beim Ätzen.
Nasschemische Prozesse sind entscheidend für den Ertrag in der Halbleiterproduktion, da Schwankungen der chemischen Konzentration die Gleichmäßigkeit der Oberflächenbehandlung beeinflussen können. Eine präzise Kontrolle der chemischen Konzentration ist daher unerlässlich.
Der CS‑900F nutzt ein berührungsloses Messverfahren, das sich einfach durch die Montage der Zelleinheit an der Rohrleitung realisieren lässt. Dieser Ansatz trägt dazu bei, das Risiko von Chemikalienlecks und Kontaminationen zu reduzieren*¹.
Um den steigenden Anforderungen der Industrie an kompaktere integrierbare‑Komponenten gerecht zu werden, setzt der CS‑900F auf ein faseroptisches Kabel und verlagert das Spektrometer in die Haupteinheit. Dadurch wird das Volumen der im Kundenequipment installierten Zelleinheit im Vergleich zu bisherigen HORIBA‑Modellen um etwa 60 % reduziert*². Trotz der deutlichen Größenreduktion*3 verfügt der CS‑900F über einen internen Referenzmechanismus*4, der die Messstabilität erhöht und durch die Minimierung externer Störeinflüsse eine hohe Messgenauigkeit sicherstellt.
Darüber hinaus erweitert der CS‑900F den messbaren Wellenlängenbereich auf etwa das Dreifache im Vergleich zu früheren Modellen*² und ermöglicht damit die Unterstützung einer deutlich größeren Bandbreite an Nassprozesschemikalien.
Neben dem Standardprozess SC‑1 (wässrige Lösung aus Ammoniumhydroxid und Wasserstoffperoxid) unterstützt der CS‑900F auch Prozesse mit komplexen und gefährlichen Chemikalien, darunter Mischlösungen aus Salpeter‑, Phosphor‑ und Essigsäure. Hochtemperierte Prozessflüssigkeiten bis zu 80 °C können ohne Probenvorbehandlung direkt gemessen werden, was sowohl die Betriebssicherheit als auch die Handhabung deutlich verbessert.
Takuya Onoda, Product Line Manager bei HORIBA Advanced Techno Co., Ltd., erklärt: „Seit seiner Markteinführung im Jahr 1995 hat sich die CS‑Serie kontinuierlich weiterentwickelt, um den Anforderungen unserer Kunden gerecht zu werden. Mit dem CS‑900F haben wir einen faseroptischen Ansatz gewählt, um den Anlagen‑Platzbedarf zu reduzieren – eine branchenweite Priorität in der Halbleiterfertigung. Zudem haben wir das Spektrum der unterstützten Nassprozesschemikalien erweitert und damit Stabilität und Vielseitigkeit als Flaggschiffmodell der CS‑Serie weiter verbessert.“
Jochen Mielke, Director Semiconductor Europe bei der HORIBA Europe GmbH, ergänzt:
„Die Markteinführung dieser Lösung ist ein weiterer Schritt zur Erweiterung des HORIBA‑Halbleiterportfolios und zur Unterstützung der Nassprozess‑Chemikalienanwendungen unserer Kunden. Als neuster Evolutionsschritt der Serie bietet der CS‑900F zahlreiche Verbesserungen, darunter Retrofit‑Fähigkeiten, die ihn besonders flexibel in der Anwendung machen.“
*1 Kontamination: Das Einbringen fremder Substanzen, die die ursprüngliche Reinheit oder Qualität beeinträchtigen können.
*2 Vergleich mit früheren Modellen von HORIBA. Die tatsächlichen Ergebnisse können je nach Einsatzbedingungen und Anwendung variieren.
*3Größenreduktion / Platzbedarf: Die von einem Gerät oder Instrument beanspruchte Stellfläche.
*4 Referenzlicht: Ein Vergleichsstandard, der bei Absorptionsmessungen verwendet wird, um Schwankungen der Lichtquelle sowie altersbedingte Veränderungen optischer Komponenten zu kompensieren. Der Einsatz von Referenzlicht verbessert die Messgenauigkeit und trägt dazu bei, den Einfluss externer Störeinflüsse zu reduzieren.
